[发明专利]基于压电式合成射流技术的微流体混合器及其混合方法

权利要求书

1.一种基于压电式合成射流技术的微流体混合器，其特征在于：从下到上依次包括基板、盖板、压电振子三部分；基板依次设有进样口、混合通道、出样口；混合通道两侧分别设有合成射流激励器；合成射流激励器包括合成射流腔体和合成射流喷口，合成射流喷口和混合通道相连，合成射流腔体由基板的凹槽、盖板的通孔和压电振子组成；

所述的压电振子包括下层的激振片和上层的压电片，激振片密封覆盖在盖板的通孔上，对称设置的两个压电振子的振幅和频率相等相位相反，混合通道两侧合成射流喷口的吹、吸过程相反，这一方面使得混合通道内的纵向涡数量较为恒定，从而提升了合成射流的混合在时间上的均匀性，另一方面将合成射流整体的质量流量控制为零，从而避免了微流体混合器出样口的流量在合成射流的分流作用影响下产生波动。

2.如权利要求1所述的微流体混合器，其特征在于：所述的进样口为一个或者多个，多个时相对于混合通道对称或者非对称设置。

3.如权利要求1所述的微流体混合器，其特征在于：所述的进样口和混合通道之间进一步设有进样通道。

4.如权利要求1所述的微流体混合器，其特征在于：所述的合成射流喷口的竖直深度不超过混合通道竖直深度的一半。

5.如权利要求1所述的微流体混合器，其特征在于：通过改变施加在所述压电振子两端的电压值和电压频率可实时调节混合通道内的样品混合程度。

6.一种采用如权利要求1所述的微流体混合器的混合方法，其特征在于：设置两个压电振子的振幅、频率相等，相位相反，在这一运行条件下，混合通道两侧合成射流喷口的吹、吸过程相反，这一方面使得混合通道内的纵向涡数量较为恒定，从而提升了合成射流的混合在时间上的均匀性，另一方面将合成射流整体的质量流量控制为零，从而避免了微流体混合器出样口的流量在合成射流的分流作用影响下产生波动。