[发明专利]磁致折变光纤折射率测量系统在审
| 申请号： | 202110500314.8 | 申请日： | 2021-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN113281011A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 王廷云;黄素娟;黄彩红;董艳华;闫成;孙婉婷;黄怿 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01M11/04;G01M11/00 |
| 代理公司： | 贵州派腾知识产权代理有限公司 52114 | 代理人： | 唐斌 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折变 光纤 折射率 测量 系统 | ||
1.一种磁致折变光纤折射率测量系统，包括光源(101)，其特征在于：通过分光装置(102)将光源(101)的光分为两束，一束光作为参考光，另一束作为测量光，待测光纤(105)置于磁场中，测量光经过待测光纤(105)透射后和参考光进入光路干涉模块(108)。
2.根据权利要求1所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：待测光纤(105)垂直于测量光光路，测量光沿待测光纤(105)横向传播。
3.根据权利要求2所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：待测光纤(105)安装在光纤自动对焦支架(106)上，光纤自动对焦支架(106)置于磁场发生装置(2)中。
4.根据权利要求3所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：待测光纤(105)浸没在含匹配液的比色皿中，再由光纤自动对焦支架(106)固定光纤和比色皿。
5.根据权利要求3所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：采用温控设备(3)调节待测光纤(105)的温度。
6.根据权利要求4所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：磁场发生装置(2)置于电磁屏蔽装置(4)中。
7.根据权利要求5所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：整个测量系统安装在真空稳定装置(5)中。
8.根据权利要求1-7任一项所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：参考光和测量光的光路上安装反光镜(103)，参考光经反光镜(103)进入光路干涉模块(108)，测量光经反光镜(103)进入待测光纤(105)折射后进入光路干涉模块(108)。
9.根据权利要求8所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：分光装置(102)、两个反光镜(103)和光路干涉模块(108)布置在矩形的四个角，分光装置(102)和光路干涉模块(108)呈对角布置；光路干涉模块(108)的两条入射光路上设置光信号传输放大装置(107)；光路干涉模块(108)连接信号处理装置(109)。
10.根据权利要求9所述的磁致折变光纤折射率测量系统，其特征在于：真空稳定装置(5)是镀有TiZrV薄膜的真空管道，经过低温激活后抽气真空。
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