[发明专利]一种用于TFT-LCD显示屏用ITO蚀刻液及制备方法在审
申请号: | 202110492057.8 | 申请日: | 2021-05-06 |
公开(公告)号: | CN113201345A | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 许磊;黄德新;何烨谦 | 申请(专利权)人: | 合肥中聚合臣电子材料有限公司 |
主分类号: | C09K13/06 | 分类号: | C09K13/06 |
代理公司: | 安徽申策知识产权代理事务所(普通合伙) 34178 | 代理人: | 程艳梅 |
地址: | 231602 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 tft lcd 显示屏 ito 蚀刻 制备 方法 | ||
1.一种用于TFT-LCD显示屏用ITO蚀刻液,其特征在于,包括以下按重量百分比计的组分:硫酸10%-20%,添加剂1%-5%,表面活性剂0.05%-0.5%,消泡剂0.01%-0.1%,余量水,所述添加剂为无机盐和有机物的混合物。
2.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏用ITO蚀刻液,其特征在于:所述无机盐选自醋酸铵、硫酸铵、硝酸铵、硝酸钾、硫酸钾、磷酸二氢钾、磷酸钾、醋酸钾和柠檬酸钾中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD显示屏用ITO蚀刻液,其特征在于:所述有机物选用甲基四唑、咪唑、2-巯基咪唑、2-巯基-5-甲基苯并咪唑、1,2,4-三氮唑、4-氨基-4H-1,2,4-三唑、苯骈三氮唑中的任意一种。
4.一种用于TFT-LCD显示屏用ITO蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、在混配釜中,先加如一定量的高纯水;
S2、在不断搅拌的条件下,加如一定量的浓硫酸,并循环2h,打开冷却系统,冷却硫酸溶液至30℃;
S3、按比例在混配釜中加如添加剂、表面活性剂、消泡剂,并循环30min;
S4、将混合液体采用0.1μm过滤器进行过滤后得到ITO蚀刻液。
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