[发明专利]一种光罩曝光显影工艺在审
| 申请号： | 202110488523.5 | 申请日： | 2021-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN113126456A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 郑永庆;张衡;陈宏渊 | 申请（专利权）人： | 艾斯尔光电（南通）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/30;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 王新爱 |
| 地址： | 226000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 显影 工艺 | ||
1.一种光罩曝光显影工艺,其特征在于：包括以下步骤：
A、首先将光罩置于光罩载台上，并通过负压将光罩吸附固定于光罩载台上；
B、将光罩载台通过多个气缸顶紧；
C、将曝光系统的光源通过聚光透镜照射至光罩上且光源完全遮盖光罩，对光罩进行曝光；
D、将曝光后光罩放置于显影液中进行显影；
E、将显影后的光罩倾斜放置于光罩放置架上，并冲洗光罩，最后进行干燥。
2.根据权利要求1所述的一种光罩曝光显影工艺,其特征在于：所述步骤C中还包括光束结合器，所述曝光系统的光源通过光束结合器结合射出后在经过聚光透镜进一步聚光后射出至光罩。
3.根据权利要求1所述的一种光罩曝光显影工艺,其特征在于：所述步骤D中显影液组分按重量份数包括碳酸钠4-10份、碳酸钾4-10份、丙酮3-12份、酚醛甲醛树脂14-24份、硼酸2-5份、偏硼酸钾1-3份。
4.根据权利要求1所述的一种光罩曝光显影工艺,其特征在于：所述步骤D中光罩载显影过程中不断振荡显影液，同时控制显影液温度为35-40℃。
5.根据权利要求1所述的一种光罩曝光显影工艺,其特征在于：所述步骤E中冲洗时先采用喷淋的方式冲洗光罩表面，冲洗干净后再将光罩放入流动的去离子水槽内冲洗，冲洗时间为50min-60min。
6.根据权利要求1所述的一种光罩曝光显影工艺,其特征在于：所述步骤E中采用低温干燥，干燥温度为60-70℃，时间为6min-10min。
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