[发明专利]氟化物基应力发光材料、其制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202110486027.6 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113403065B 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 杨艳民;张伟;宁静静 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: C09K11/61 分类号: C09K11/61;G01L1/24
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 胡素梅
地址: 071002 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 氟化物 应力 发光 材料 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种氟化物基应力发光材料,其特征是,其化学通式为M1-xF2:Ax,其中,x表示摩尔百分含量,且0<x≤0.05;M为碱土金属Mg、Ca中的至少一种;A为Bi或过渡金属离子。

2.根据权利要求1所述的氟化物基应力发光材料,其特征是,所述过渡金属离子为Sc、Ti、Mn、Cu或Zn。

3.根据权利要求1所述的氟化物基应力发光材料,其特征是,x具体为0.02。

4.一种氟化物基应力发光材料的制备方法,其特征是,包括如下步骤:按权利要求1中化学通式M1-xF2:Ax中各元素的化学剂量比称取各原料;M元素即选其对应的氟化物为原料,A元素中除Mn外均选对应的氧化物为原料,若A为Mn,则选取碳酸锰为原料;将称好的原料置入玛瑙研钵中,加入乙醇使其充分混合,并充分研磨至粉末态;将研磨好的粉末盛放在坩埚中,放入高温气氛管式炉中,在弱还原气氛、氮气或氩气的保护气氛下1100℃,煅烧2h,自然冷却至室温取出,研磨即为所需发光材料。

5.根据权利要求4所述的氟化物基应力发光材料的制备方法,其特征是,弱还原气氛为体积占比分别为5%的H2和95%的N2

6.一种氟化物基应力发光材料,其特征是,其化学通式为M1-x-yF2:Bx,Mn2+y,其中,0≤x≤0.05,0≤y≤0.05,x和y分别表示摩尔百分含量,且x和y不同时为零;M为碱土金属Mg、Ca中的至少一种;B为稀土离子中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的氟化物基应力发光材料,其特征是,所述稀土离子包括Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm和Yb。

8.根据权利要求6所述的氟化物基应力发光材料,其特征是,x和y分别为0.02。

9.一种氟化物基应力发光材料的制备方法,其特征是,包括如下步骤:按权利要求6中化学通式M1-x-yF2:Bx,Mn2+y中各元素的化学剂量比称取各原料;M元素即选其对应的氟化物为原料,B元素即选其对应的氧化物为原料,Mn元素选取碳酸锰为原料;将称好的原料置入玛瑙研钵中,加入乙醇使其充分混合,并充分研磨至粉末态;将研磨好的粉末盛放在坩埚中,放入高温气氛管式炉中,在弱还原气氛、氮气或氩气的保护气氛下1100℃,煅烧2h,自然冷却至室温取出,研磨即为所需发光材料。

10.一种权利要求1-9任一项中氟化物基应力发光材料在结构损伤探测、电子签名系统、电子皮肤领域中涉及应力监测方面的应用。

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