[发明专利]一种氟化物荧光粉的处理方法

权利要求书

1.一种氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述处理方法包括采用还原剂对氟化物荧光粉进行处理的工艺；所述氟化物荧光粉中掺杂有Mn⁴⁺离子，所述还原剂为α-酮基酸类还原剂或α-羟基酸类还原剂。

2.根据权利要求1所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述α-酮基酸类还原剂包括丙酮酸、乙醛酸和α-酮戊二酸中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述α-羟基酸类还原剂包括酒石酸、柠檬酸、乳酸、乳糖酸和苹果酸中的至少一种。

4.根据权利要求1-3任一项所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)制备或取用掺杂有Mn⁴⁺的氟化物荧光粉以及还原剂的溶液；

(2)将所述氟化物荧光粉分散于所述还原剂的溶液中，搅拌反应设定时间后，经后处理即完成所述氟化物荧光粉的处理。

5.根据权利要求4所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述还原剂的溶液中，还原剂的质量浓度为0.5％～100％。

6.根据权利要求4所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，步骤(2)中所述搅拌反应的时间为0.5～24h；所述搅拌反应的搅拌速度为0～1000r/min；所述搅拌反应的温度控制为0～100℃。

7.根据权利要求1-3任一项所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述氟化物荧光粉包括商用K₂Si_1-xF₆:xMn⁴⁺荧光粉和采用共沉淀-离子交换法制备的K₂Si_1-xF₆:xMn⁴⁺、K₂Ti_1-xF₆:xMn⁴⁺和K₂Ge_1-xF₆:xMn⁴⁺荧光粉中的至少一种。

8.根据权利要求1-3任一项所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述处理方法还包括采用离子交换法对氟化物物荧光粉进行处理的工艺，包括以下步骤：

(1)在载体溶液中分别加入氟化物和所述还原剂，得到混合溶液，所述混合溶液中氟化物为饱和状态；所述氟化物的化学式为AHF₂、ABF₃、ANF₄、BNF₅、A₂MF₆、A₃NF₆、ABNF₆、A₃MF₇、A₂LF₇、BMF₇、B₂MF₈和A₅B₃F₁₄中的一种；其中A为Li、Na、K、Rb、Cs、NH₄或N(CH₃)₄；B为Mg、Ca、Sr、Ba或Zn；N为In、Ga或Al；R为La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu；M为Si、Ti、Ge、Sn、Zr或Hf；L为Ta或Nb；

(2)在所述混合溶液中添加掺杂有Mn⁴⁺的氟化物荧光粉，搅拌反应特定时间，实现混合溶液中的阳离子与掺杂有Mn⁴⁺的氟化物荧光粉中的Mn⁴⁺离子交换，形成核壳结构，同时还原剂将交换溶出的Mn⁴⁺即时还原，即完成所述氟化物荧光粉的处理。

9.根据权利要求8所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，所述载体溶液为氢氟酸溶液。

10.根据权利要求9所述的氟化物荧光粉的处理方法，其特征在于，步骤(3)中所述反应的时间为20min以上。