[发明专利]一种投影系统及投影仪在审
| 申请号： | 202110480914.2 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113156753A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 李金华;杨军超;吴丽萍;徐殿维 | 申请（专利权）人： | 博众精工科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 215200 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 投影 系统 投影仪 | ||
1.一种投影系统，其特征在于，包括出光模块、匀光模块、光调制模块、数字微镜阵列和投影成像模块；
所述出光模块用于出射所述投影系统所需的发光光束；
所述匀光模块包括匀光片，所述匀光片位于所述发光光束的传播路径上，用于对所述发光光束进行匀光处理，形成匀光光束；
所述光调制模块包括第一调制单元，所述第一调制单元位于所述匀光光束的传播路径上，用于调整所述匀光光束入射至所述数字微镜阵列；
所述数字微镜阵列用于反射所述匀光光束形成反射光束，所述反射光束携带编码图案；
所述光调制模块还包括第二调制单元，所述第二调制单元位于所述反射光束的传播路径上，用于反射至少部分所述反射光束至所述投影成像模块；
所述投影成像模块用于将所述反射光束投影至待投影位置。
2.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述匀光片包括喷砂玻璃和/或磨砂玻璃。
3.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述投影系统还包括准直模块，所述准直模块位于所述发光光束的传播路径上，用于对所述发光光束进行准直。
4.根据权利要求3所述的投影系统，其特征在于，所述准直模块包括弯月透镜和非球面透镜；
所述弯月透镜位于所述发光光束的传播路径上，用于对所述发光光束进行会聚，形成会聚光束；
所述非球面透镜位于所述会聚光束的传播路径上，用于对所述会聚光束进行准直。
5.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述出光模块包括发光二极管、卤素灯、激光光源以及超高压汞灯的至少一种。
6.根据权利要求5所述的投影系统，其特征在于，所述出光模块包括蓝光发光二极管。
7.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述第一调制单元包括楔形棱镜。
8.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述第二调制单元包括直角棱镜，所述直角棱镜用于反射所述反射光束中入射角大于或者等于全反射角的光束，透射所述反射光束中入射角小于全反射角的光束。
9.根据权利要求1所述的投影系统，其特征在于，所述投影成像模块包括若干个光学透镜。
10.一种投影仪，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的投影系统。
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