[发明专利]固体源前体容器在审
申请号: | 202110473042.7 | 申请日: | 2021-04-29 |
公开(公告)号: | CN113564566A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | J.黄;A.金蒂;S.比亚尼;J.R.巴基;E.J.希罗 | 申请(专利权)人: | ASMIP私人控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/50;C23C16/455 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固体 源前体 容器 | ||
1.一种反应物源容器,包括:
容器主体,其具有限定容器主体的内部区域的外侧壁和底表面;
设置在容器主体的内部区域内的多个凹穴,所述多个凹穴中的每个构造成容纳一定体积的固体源前体;
盖,其构造成与容器主体接合,所述盖在连接到容器主体时封闭容器主体的内部区域;
在容器主体的内部区域内的流体流动路径,所述流体流动路径形成在多个凹穴上方且在盖的底表面下方,所述流体流动路径沿着穿过多个凹穴中的每个的至少一部分的路径在入口端和出口端之间延伸。
2.根据权利要求1所述的容器,还包括:
附接到所述盖的顶表面的入口阀和出口阀,其中,每个阀连接到通过所述盖的流体通道。
3.根据权利要求2所述的容器,其中,当所述盖连接到所述容器主体时,所述入口阀与所述流体流动路径的入口端流体连通,并且所述出口阀与所述流体流动路径的出口端流体连通。
4.根据权利要求1所述的容器,其中,所述多个凹穴中的每个包括:
封闭的底端;
敞开的上端;以及
在封闭的底端和敞开的上端之间延伸的至少一个侧壁表面,其中,封闭的底端、敞开的上端和至少一个侧壁表面限定凹穴的内部体积。
5.根据权利要求4所述的容器,其中,所述多个凹穴中的每个凹穴具有共同的尺寸。
6.根据权利要求4所述的容器,其中,所述多个凹穴中的每个凹穴包括矩形棱柱。
7.根据权利要求1所述的容器,还包括:
插入件,其构造成设置在所述载体主体的内部区域内,其中,所述多个凹穴形成在插入件内。
8.根据权利要求1所述的容器,其中,所述插入件包括至少第一层和第二层,其中,所述第一层和第二层堆叠在所述载体主体的内部区域内,以共同限定所述多个凹穴。
9.根据权利要求1所述的容器,其中,所述插入件的第一层和第二层由陶瓷材料形成。
10.根据权利要求1所述的容器,其中,所述流动路径包括在所述入口端和出口端之间的非直接流动路径。
11.根据权利要求1所述的容器,还包括:
第一多个平行的分隔壁,其在所述容器主体的第一组相对的侧壁之间延伸;以及
第二多个平行的分隔壁,其在所述容器主体的第二组相对的侧壁之间延伸,其中,第一和第二多个分隔壁相交以限定所述多个凹穴的矩阵。
12.根据权利要求11所述的容器,其中,至少所述第一多个分隔壁和第二多个分隔壁分别在所述第一组相对的侧壁和第二组相对的侧壁之间均等地间隔开。
13.根据权利要求11所述的容器,其中,所述第一和第二多个分隔壁的高度不同,以限定所述入口端和出口端之间的所述流体流动路径。
14.一种反应物源容器,包括:
容器主体,其具有限定容器主体的内部区域的外侧壁和底表面;
第一多个平行的分隔壁,其在容器主体的第一组相对的侧壁之间延伸;
第二多个平行的分隔壁,其在容器主体的第二组相对的侧壁之间延伸,其中第一和第二多个分隔壁相交以在容器主体的内部区域内限定凹穴矩阵,凹穴矩阵中的每个凹穴构造成容纳一定体积的固体源前体;
盖,其构造成与容器主体接合,所述盖在连接到容器主体时封闭容器主体的内部区域;以及
由盖的底表面、容器主体的外侧壁以及第一和第二多个分隔壁限定的流体流动路径,其中流体流动路径在入口端和出口端之间延伸并且穿过凹穴矩阵中的每个凹穴的上表面。
15.根据权利要求14所述的容器,其中,所述凹穴矩阵中的每个凹穴具有共同的尺寸。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的