[发明专利]一种无掩膜光学双面光刻装置在审
| 申请号： | 202110469869.0 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113341658A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 袁翔;刘炳林;施泽平;吴闻彬 | 申请（专利权）人： | 华东师范大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 | 代理人： | 徐筱梅;张翔 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 无掩膜 光学 双面 光刻 装置 | ||
1.一种无掩膜光学双面光刻装置，其特征在于，它包括图像光路系统（1）、成像光路系统（2）、基片承载系统（3）及光刻电子系统（4）；
所述图像光路系统（1）由高压汞灯光源（101）、带通二向色镜（102）、第三反射镜（103）、液晶显示LCD模组（104）、第一反射镜（105）、第一胶合透镜（106）及第二反射镜（107）构成，且高压汞灯光源（101）、带通二向色镜（102）、第三反射镜（103）、液晶显示LCD模组（104）、第一反射镜（105）、第一胶合透镜（106）及第二反射镜（107）依次光路连接；
所述成像光路系统（2）由第一分束镜（201）、第三胶合透镜（202）、第二分束镜（203）、高通滤光镜（204）、计时光阑（205）、第二胶合透镜（206）、写场透镜组（207）、第四反射镜（208）、照明光源（209）及光学镜架（210）构成，
所述照明光源（209）、第三胶合透镜（202）、第一分束镜（201）及第二分束镜（203）依次光路连接；所述第二分束镜（203）将光路分为两路，一路与计时光阑（205）、第二胶合透镜（206）及写场透镜组（207）依次光路连接，另一路与第四反射镜（208）光路连接；
所述第二分束镜（203）、高通滤光镜（204）、计时光阑（205）、第二胶合透镜（206）及写场透镜组（207）均置于光学镜架（210）上；
所述基片承载系统（3）由三维中空电动平移台（501）及真空吸盘（502）构成，所述真空吸盘（502）设于三维中空电动平移台（501）上；
所述光刻电子系统（4）由计算机（401）、第一CCD检测仪（402）、q、LCD控制器（404）及步进电机控制器（405）构成；
所述计算机（401）分别与第一CCD检测仪（402）、第二CCD检测仪（403）、LCD控制器（404）及步进电机控制器（405）数据线连接；
所述成像光路系统（2）为两套，且两套成像光路系统（2）相对于基片承载系统（3）呈镜像设置；两套成像光路系统（2）内的第四反射镜（208）互为光路连接；
所述图像光路系统（1）的第二反射镜（107）与成像光路系统（2）的第一分束镜（201）光路连接；
所述光刻电子系统（4）的LCD控制器（404）与图像光路系统（1）的液晶显示LCD模组（104）数据线连接；光刻电子系统（4）的步进电机控制器（405）与基片承载系统（3）的三维中空电动平移台（501）数据线连接；
所述光刻电子系统（4）的第一CCD检测仪（402）与一套成像光路系统（2）内的第一分束镜（201）光路连接，第二CCD检测仪（403）与另一套成像光路系统（2）内的第一分束镜（201）光路连接；
所述光刻电子系统（4）的计算机（401）分别与两套成像光路系统（2）内的计时光阑（205）数据线连接。
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