[发明专利]阵列基板及液晶显示面板在审

专利信息
申请号: 202110465341.6 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN113156714A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 吕晓文 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1343
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李健
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 液晶显示 面板
【说明书】:

本申请公开了一种阵列基板及液晶显示面板,所述阵列基板包括依次设置的衬底基板、第一电极层、保护层和第二电极层,其中,第二电极层包括像素电极,像素电极包括相连的像素电极本体和导通部,其中,所述导通部设置有粗糙面以用于引流导通部处的冗余配向液,使得配向液固化成膜后所形成的配向层厚度均匀,有效避免因导通部处配向液堆积而造成液晶显示面板亮度不均匀(Mura)的问题,进而提升液晶显示面板的显示品质。

技术领域

发明涉及显示技术领域,具体涉及一种阵列基板及液晶显示面板。

背景技术

在显示技术领域,液晶显示技术发展最为成熟,液晶显示技术已深入渗透至现代生活中。液晶显示面板具有轻薄、省电、画面柔和等优点,其在显示技术领域应用广泛。液晶显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及夹设于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。为了使液晶显示面板具有理想的响应速度及显示效果,通常需要对液晶层中的液晶分子设置特定的配向方向,即在阵列基板靠近液晶层的表面以及彩膜基板靠近液晶层的表面分别设置配向层以向液晶分子提供预倾角,从而促使液晶分子在初始状态的排列呈现一定规律。

在配向层的制备过程中,配向液先被转印至阵列基板靠近液晶层的表面以及彩膜基板靠近液晶层的表面,然后固化成膜。在液晶显示面板的阵列基板中,很多位置都设有过孔,例如:在薄膜晶体管的漏极上通常设有保护层,保护层上设有像素电极,保护层上开设有过孔以使像素电极与漏极相连,由于过孔的存在,所以实际上像素电极的表面并不平整,即在像素电极与过孔相对应的位置处会存在向下凹陷而形成凹槽的问题。上述凹槽通常较小且表面光滑,当在像素电极上制备配向层时,基于配向液的流动性以及分子张力作用,所述凹槽处会出现配向液堆积的问题。对于间垫物形成于彩膜基板(Post Spacer On ColorFilter,POC)上的液晶显示面板来说,由于阵列基板上无间垫物(Post Spacer,PS)引流配向液,所以上述凹槽处配向液堆积的问题尤为严重,使得固化成膜后凹槽处配向层的厚度可能厚于其他位置处的配向层,造成配向层整体厚度不均匀的缺陷,进而降低液晶显示面板的显示品质。

发明内容

针对现有技术的不足之处,本申请提供了一种阵列基板及液晶显示面板,以改善现有液晶显示面板中靠近阵列基板一侧的配向层整体厚度不均匀的问题,从而提高液晶显示面板的显示品质。

第一方面,本申请提供了一种阵列基板,所述阵列基板包括:

衬底基板;

第一电极层,设置于所述衬底基板上,所述第一电极层包括间隔设置的源极和漏极;

保护层,设置于所述衬底基板上,并且覆盖所述第一电极层,所述保护层在与所述漏极相对应的位置处设有过孔;以及

第二电极层,设置于所述第一电极层及所述保护层上,所述第二电极层包括像素电极,所述像素电极包括相连的像素电极本体和导通部,所述像素电极本体设置于所述保护层上,所述导通部穿过所述过孔与所述漏极相连;

其中,所述导通部设置有粗糙面以用于引流配向液。

可选地,所述导通部至少远离所述第一电极层和所述保护层的一侧表面粗糙。

可选地,所述导通部包括相连的外围体和内芯体,所述外围体设置于所述保护层上,所述内芯体填充于所述过孔内,并且所述外围体绕设于所述内芯的周围;所述外围体和/或所述内芯体设置有粗糙面。

可选地,所述外围体和所述内芯体均设置有所述粗糙面;所述外围体和所述内芯体均为连续不间断结构,所述外围体和所述内芯体的所述粗糙面均设置有沟道和/或凸起结构。

可选地,所述外围体设置有所述粗糙面,且所述外围体为连续不间断结构,且所述外围体的所述粗糙面设有沟道和/或凸起结构;所述内芯体为未经粗糙处理的连续不间断结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110465341.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top