[发明专利]一种异质结光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110465003.2 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN113257944B 公开(公告)日: 2023-02-14
发明(设计)人: 洪嘉祥;江源长;雷双瑛;陈洁;黄庆安 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/18
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 冯慧
地址: 210096 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 异质结 光电 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种异质结光电探测器,其特征在于:光电探测器包括衬底(1)、下电极(2)、双层旋转SnS-AD堆垛(3)、双层GeS-AB堆垛(4)、上电极(5),其中衬底为玻璃衬底,在玻璃衬底上层为堆叠的双层旋转SnS-AD堆垛(3),而双层旋转SnS-AD堆垛(3)上堆叠着双层GeS-AB堆垛(4),下电极(2)和玻璃衬底(1)还有双层旋转SnS-AD堆垛(3)相连接,上电极(5)和双层GeS-AB堆垛(4)相连接,上电极的面积大小为双层GeS-AB堆垛面积的25%;双层旋转SnS-AD堆垛(3)和双层GeS-AB堆垛(4)构成了一个Ⅱ型异质结;双层旋转SnS-AD堆和双层GeS-AB堆垛都为稳定的堆垛结构;双层旋转AD型SnS堆垛的第二层再相对于第一次层旋转了180°,然后第二层相当于相对第一层沿b方向移动了半个周期,而双层GeS-AB堆垛的结构的第二层相对于第一层沿着a方向移动了0.281个周期。

2.根据权利要求1所述的异质结光电探测器,其特征在于,所述的异质结半导体激光器中双层旋转SnS-AD堆垛厚度与为1nm-4nm,双层GeS-AB堆垛厚度为1nm-4nm,上电极金属电极,下电极为导电玻璃电极。

3.根据权利要求1所述的异质结光电探测器,其特征在于,双层旋转SnS-AD堆垛(3)和双层GeS-AB堆垛(4)结构都是通过探针剥离的方法将初始结构错位得到的。

4.根据权利要求1所述的异质结光电探测器,其特征在于,这里采用的下电极(2)和衬底(1)为一体化的导电玻璃。

5.一种权利要求1~4任一所述的异质结光电探测器的制备方法,其特征在于,该制备方法包括如下步骤:

a.衬底和下电极的制备:光刻胶法制备衬底和下电极;

b.GeS薄膜的制备:采用化学浴生长法合成GeS薄膜,采用沉积法合成SnS薄膜;

c.SnS薄膜的制备:采用沉积法合成SnS薄膜;d.特殊类黑磷堆垛的制备:

1)将上述得到的GeS膜,在电子显微镜下,通过探针剥离的方法,剥离得到双层的GeS;

2)将1)得到的GeS在电子显微镜下,使用探针对其结构进行剥离,将第二层相对第一层翻转180°,然后让第二层相对于第一层移动0.281个周期,得到所要求的双层GeS-AB堆垛;

通过步骤1)和2)的方法得到双层旋转SnS-AD堆垛;

e.组合器件

将d得到的双层旋转SnS-AD堆垛通过二维材料转移装置转移到基底上,且使得双层旋转SnS-AD堆垛与导电玻璃电极良好接触,然后将d得到的双层GeS-AB堆垛通过二维材料转移系统堆叠在双层旋转SnS-AD堆垛上方,对所得到的结构进行退火处理;

f.制作在上电极

在e得到的器件上表面蒸镀金属作为上电极,金属层均匀且纯度大于95wt%,上电极的面积大小为双层GeS-AB堆垛面积的25%。

6.如权利要求5所述的异质结光电探测器的制备方法,其特征在于,衬底和下电极的制备具体是采用导电玻璃作为衬底和电极,首先在导电玻璃上涂上均匀的光刻胶,通过光刻技术得到对应电极图形的反图形,然后用刻蚀液腐蚀掉未被保护的部分,最后用丙酮溶液清洗掉多余的光刻胶,将得到的电极结构用酒精和去离子水进行超声清洗,然后用氮气吹干,使得下电极(2)能够和玻璃衬底(1)还有双层旋转SnS-AD堆垛(3)相连接。

7.如权利要求5所述的异质结光电探测器的制备方法,其特征在于,采用化学浴生长法合成GeS薄膜,具体步骤如下:将计量比的锗氯化二噁烷络合物、硫脲、油酰胺0LA分别在空气中轻微的磁力搅拌;将搅拌后的液体混合物超声处理,除去油胺中的空气;随后连接到Schlenk线,抽真空,除去水分和氧气;在磁力搅拌下通氮气进行惰性气体保护;将处理过后的液体混合物加热,随着温度的升高,液体逐渐变成了黄色透明溶液,反应混合物在氮气流中回流反应;反应结束将溶液冷却至室温,沉淀离心分离,洗涤真空干燥获得样品。

8.如权利要求5所述的异质结光电探测器的制备方法,其特征在于,采用沉积法合成SnS薄膜,具体如下:先将去离子水通氮气,在水中加入药品,称取SnCl2-2H2O、Na2S2O3-5H2O、K4P2O7及添加剂C19H42BrN或CO(NH2)2,适量CuCl2-2H2O或AlCl3-6H2O溶于去离子水中,使用稀硫酸调节电乘积液pH值2.8~3.0,搅拌均匀备用,将三电极插入上述沉积液中,在恒温水浴进行沉积,搅拌速度恒定,恒电位沉积,沉积得到的薄膜放置在瓷舟中,再将瓷舟放置于管式炉中,退火,而后随炉冷却至室温。

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