[发明专利]基于石墨烯-金属裂环谐振器涡旋聚焦的方法在审
| 申请号： | 202110463063.0 | 申请日： | 2021-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN113204131A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 陈明;张佑丹;王帅钊;苑立波 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 541004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 石墨 金属 谐振器 涡旋 聚焦 方法 | ||
1.一种基于石墨烯-金属裂环谐振器涡旋聚焦的方法。其特征是：它由底层和顶层周期性图案化的金属层1、中间的介质层3以及嵌在介质层3中的石墨烯层2构成，通过阵列原始手性超表面结构和其镜像结构，实现动态太赫兹近场成像。
2.根据权利要求1所述的基于石墨烯-金属裂环谐振器涡旋聚焦的方法。其特征是：该单元结构周期为65μm×65μm，且该结构与其镜像结构不重合。
3.根据权利要求1所述的基于石墨烯-金属裂环谐振器涡旋聚焦的方法。其特征是：底层和顶层的金属层1由厚度为0.2μm的金构成，其中，顶层的金是由两缺环谐振器1-1、1-2构成，两缺环谐振器1-1、1-2的旋转角为45°间距为2μm，环宽为4μm，且大缺环谐振器1-1的外半径为24μm，缺口角为55°，小缺环谐振器1-2的缺口角为65°。
4.根据权利要求1所述的基于石墨烯-金属裂环谐振器涡旋聚焦的方法。其特征是：中间的介质层3的材料为聚酰亚胺，其厚度为36μm，相对介电常数ε＝3.5+0.00945i。
5.根据权利要求1所述的基于石墨烯-金属裂环谐振器涡旋聚焦的方法。其特征是：通过旋转原始的石墨烯-金属裂环谐振器单元结构至不同的角度并阵列为50*50的超表面结构。太赫兹场的相位分布为：其中，x，y属于这个超表面中原点为(x0,y0)的任意点的坐标，λ是对应共振频率处的波长，f是焦距，l是指定轨道角动量状态的整数，δ是方位角。
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