[发明专利]用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物

说明书

本发明涉及用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物，所述用于黑矩阵的颜料分散组合物包含炭黑和/或内酰胺黑、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂，并且还包含选自由钛酸钡、氧化铝和氢氧化铝所组成的群中的一种以上的无机化合物，相对于100质量份的所述炭黑和/或内酰胺黑，所述无机化合物为30质量份以下。该用于黑矩阵的颜料分散组合物的分散稳定性优异，并可获得具有良好的显影液再利用性的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物。

技术领域

本发明涉及一种用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物。

背景技术

目前，已知包含炭黑和/或内酰胺黑、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂的用于黑矩阵的颜料分散组合物，以及包含该用于黑矩阵的颜料分散组合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物(专利文献1-6)。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本特开2014-102346号公报

专利文献2：国际公开第2015/056688号

专利文献3：日本特开2016-79245号公报

专利文献4：日本特开2019-81831号公报

专利文献5：日本特开2019-81857号公报

专利文献6：日本特开2019-82533号公报

发明内容

[本发明旨在解决的技术问题]

在使用如上所述的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物形成黑矩阵的图案时，通常在将用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物涂布在基板上以形成光阻膜后，使紫外线通过具有所需图案的光掩模来进行曝光，在使曝光部的光阻膜硬化后，使用显影液去除未曝光部的光阻膜。

另一方面，就提高生产性的方面而言，市场要求所述显影液具有再利用性，上述专利文献中描述的用于黑矩阵的颜料分散组合物仍然具有改善该性能的余地。

此外，一般而言，用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物通过在涂布之前混合用于黑矩阵的颜料分散组合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂等来制备，因此用于黑矩阵的颜料分散组合物在保存时需要具有分散稳定性。

本发明是鉴于上述实际情况而完成的，其目的在于提供一种可获得的具有良好的显影液再利用性的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物和分散稳定性优异的用于黑矩阵的颜料分散组合物。

[解决技术问题的技术手段]

本发明涉及一种用于黑矩阵的颜料分散组合物，其包含炭黑和/或内酰胺黑、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂，并且还包含选自由钛酸钡、氧化铝和氢氧化铝所组成的群中的一种以上的无机化合物，相对于100质量份的所述炭黑和/或内酰胺黑，所述无机化合物为30质量份以下。

此外，本发明涉及一种用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物，其包含所述用于黑矩阵的颜料分散组合物、光聚合性化合物以及光聚合引发剂。

[本发明的技术效果]

本发明的用于黑矩阵的颜料分散组合物的效果的详细作用机制尚有不清楚的部分，但可推定如下。但是，本发明并不限于该作用机制。