[发明专利]不同埋深水合物藏的扰动与稳定性分析方法

权利要求书

1.一种不同埋深水合物藏的扰动与稳定性分析方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.制备一系列与水合物相平衡曲线平行的稳定水合物体系，各水合物体系的孔隙度、水合物饱和度均一致、但埋深不同，稳定水合物体系的温度值和压力值分别为T_i，P_i，其中i代表不同埋深的稳定水合物体系i，不同埋深水合物体系对应的温度值和压力值须满足以下条件：

ln(P_i)＝-1.9413850446456×10⁵+3.31018213397926×10³(T_i+T_t)-22.5540264493806(T_i+T_t)²+0.0767559117787059(T_i+T_t)³-1.30465829788791×10^-4(T_i+T_t)⁴+8.86065316687571×10^-8(T_i+T_t)⁵，

其中，T_t为指定数值，单位为℃；

S2.对第一步制备得到的一系列水合物体系进行扰动，针对不同埋深水合物体系采用不同条件扰动，监测并收集体系扰动情况下的产气量V_g和产水量M_w；

S3.根据产气量V_g和产水量M_w的实时变化量，对不同埋深水合物藏的稳定性进行分析；

上述步骤S1中，稳定水合物体系的制备过程包括以下步骤：

S1.1.在已清洗过且干燥的已知容积V_hf的反应釜内填满密度已知的沉积物并压实，记录填入沉积物的重量,盖上釜盖，利用甲烷气进行数次吹扫后，再持续注入纯甲烷气，通过气体流量计控制进入反应釜的甲烷气含量为V_CH4，此时系统内注入的甲烷气体物质的量n_CH4＝V_CH4/22.4，关闭反应釜注入阀门，将系统温度设定为室温，并待系统稳定,在制备不同埋深水合物体系时，沉积物的注入量和甲烷气的注入量均相同，其中V_CH4的单位为mL，n_CH4的单位为mol；

S1.2.再次打开注入阀门，向反应釜内注入去离子水，去离子水的注入量为V_wi，不同埋深水合物体系的去离子水的注入量不同，随着水合物体系埋深的增加，去离子水的注入量增加，关闭阀门并待系统稳定后，将反应釜的温度降至0.5℃，待水合物合成和水合物体系最终稳定后，记录此时体系的平均温度T_hdi与压力P_hdi，其中T_hdi的单位为℃，P_hdi的单位为MPa，V_wi单位为mL；

去离子水注入量V_wi的衡量标准为并且待水合物合成后，该注入量保证系统压力条件P_hdi＞P_ei，其中P_ei为系统平均温度T_hdi条件下对应的水合物相平衡压力，其计算公式为：

ln(P_ei)＝a₀+a₁T+a₂T²+a₃T³+a₄T⁴+a₅T⁵, (1)

其中，T＝T_hdi+273.15，T的单位为K；a₀～a₅取值条件如下：

S1.3.通过公式(1),反向求得系统稳定压力P_hdi条件下对应的平衡温度T_ei，以1/4-2℃/小时的速率将系统温度缓慢升温至(T_ei-T_t)，其中，T_t为指定数值，且T_tT_ei，此时不同埋深的水合物体系的最终平均温度为T_i＝T_endi＝T_ei-T_t，压力为P_i＝P_hdi。