[发明专利]一种具有低反射低雾度的金属网格传感器及其制备工艺

说明书

本发明公开了一种具有低反射低雾度的金属网格传感器及其制备工艺，包括以下步骤：(1)涂布：取基底，在其上表面和下表面涂布有色光刻胶，固化形成光刻胶层，在光刻胶层的表面涂布催化剂溶液，固化形成催化剂层；(2)曝光：对上一步骤得到的基底进行双面同时曝光；(3)显影：利用显影液对上一步骤得到的基底进行显影处理；(4)化铜：利用镀铜液形成金属层；(5)黑化：形成黑化层；(6)制备保护层。本发明通过有色光刻胶的设置，降低所制金属网格底部的反射率，黑化降低所制金属网格表面的反射率，降低所制金属网格在金属网格传感器双面的反射率和雾度，使得金属网格的图案不易观察，从而提高金属网格传感器的透过率和外观效果。

技术领域

本发明涉及金属网格技术领域，具体为一种具有低反射低雾度的金属网格传感器及其制备工艺。

背景技术

我们处于互联网+与大数据5G时代，可穿戴设备、可折叠设备、智能家居、教育教学等领域发展迅速，中大尺寸的触控面板或柔性面板需求越来越迫切，传统的ITO基底不能实现弯曲、折叠应用，导电性也无法满足中大尺寸触控面板要求，而且ITO属于稀缺资源，不可再生。金属网格、纳米银线、碳纳米管以及石墨烯等材料开始对ITO进行替代。目前碳纳米管与石墨烯无法实现工业化量产，材料导电效果无法满足要求；而金属网格、纳米银线材料，少数厂商已经实现工业化量产，二者相比，Metal Mesh技术更加成熟，得到业界广泛认可。Metal Mesh可应用于超薄、可折叠、穿戴式电子产品中，支持即将到来的可折叠柔性显示触控一体化的新型消费电子产业需求，前景广阔。

目前Metal Mesh生产的工艺，主要有两种方式。一种采用纳米压印的方式，先制作压印的模板，然后压印将图案转移到UV胶上，UV胶形成凹槽图案后再填充导电金属，制作周期长，成本高；另一种采用卷对卷黄光制程工艺，一般采用磁控溅射铜膜为原材，通过曝光显影蚀刻的方式得到需要的金属网格。这种磁控溅射的铜膜容易氧化，同时存在针孔问题，metal mesh的线宽无法做到3um以下，只适合做超大尺寸。

金属网格一般采用银和铜低电阻金属，银和铜之类的金属具有明显的金属亮泽，在可见光波长范围内反射率高，造成金属网格线在强光灯照射下较明显，同时由于反射率高，金属网格的漫反射强，造成金属网格的雾度较高，影响金属网格的整体透过率。为了解决此问题，金属网格必须做黑化处理。纳米压印生产方式中，一般采用印刷黑墨降低金属表面的反射率，需要多次印刷，多次擦拭去除凹槽外都余的黑墨，同时黑墨需要加热固化，这种方法制作时间长，生产效率低。卷对卷黄光制程中，一般采用铜层表面镀金属镍钛方式降低反射，同时可以防止铜层氧化，这种方法成本高，同时效果不明显。因此，我们提出一种具有低反射低雾度的金属网格传感器及其制备工艺。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有低反射低雾度的金属网格传感器及其制备工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种具有低反射低雾度的金属网格传感器的制备工艺，包括以下步骤：

(1)涂布：取基底，在其上表面和下表面涂布有色光刻胶，固化形成光刻胶层，在光刻胶层的表面涂布催化剂溶液，固化形成催化剂层；

(2)曝光：对上一步骤得到的基底进行双面同时曝光；

(3)显影：利用显影液对上一步骤得到的基底进行显影处理；

(4)化铜：利用镀铜液对上一步骤得到的基底进行镀铜处理，形成金属层；

(5)黑化：利用黑化液对上一步骤得到的基底进行黑化处理，形成黑化层；

(6)制备保护层。

进一步的，所述步骤(1)包括以下步骤：

取基底，在其上表面和下表面涂布有色光刻胶，固化，固化工艺为：固化温度70～110℃，固化时间10s～5min，形成光刻胶层，