[发明专利]用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施

权利要求书

1.一种用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，包括：

遗址保护层(1)，设置在考古遗址本体(2)上方；

模拟展示装置结构层(3)，设置在所述遗址保护层(1)上方；所述模拟展示装置结构层(3)内设置有排水装置(4)以及配电装置(5)；遗址模拟面层(6)设置在所述模拟展示装置结构层(3)上方。

2.根据权利要求1所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述配电装置(5)设置在所述排水装置(4)侧部；且，所述排水装置(4)包括：垂直高度位置低于所述配电装置(5)的局部下沉式集水坑(7)。

3.根据权利要求2所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述排水装置还包括：

支撑框架(8)，所述支撑框架(8)为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体(2)上方；

导水面层(9)，设置在所述支撑框架(8)内且表面具有排水孔(10)，所述导水面层(9)将所述支撑框架(8)分隔成上下两层，所述导水面层(9)和所述支撑框架(8)围成与所述局部下沉式集水坑(7)相连通的排水空间(11)；所述局部下沉式集水坑(7)位于所述排水空间(11)下方。

4.根据权利要求3所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述排水空间(11)通过排水沟(12)与所述局部下沉式集水坑(7)相连通。

5.根据权利要求3或4所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，

所述局部下沉式集水坑(7)内还设置有用于容置潜水泵(13)的局部下沉式泵坑(16)，所述潜水泵(13)的排水管(14)延伸至所述排水空间(11)内并与排水系统相连通。

6.根据权利要求3所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述导水面层(9)为GRC面层；所述排水孔(10)设置在所述导水面层(9)其凹陷位置，所述排水孔(10)设置在所述支撑框架(8)其中间位置和/或内腔侧壁位置。

7.根据权利要求5所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述局部下沉式集水坑(7)内还具有用于容置所述潜水泵(13)的凹陷区。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，还包括：

骨架层(15)，设置在所述模拟展示装置结构层(3)上方，用于支撑所述遗址模拟面层(6)；且所述骨架层(15)为透水结构。

9.根据权利要求8所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述骨架层(15)为钢结构骨架。

10.一种考古遗址模拟展示设施，其特征在于，包括：

权利要求1至9中任一项所述的用于考古遗址的排水配电系统；以及，

考古遗址本体(2)，所述考古遗址本体(2)搭建在所述模拟展示装置结构层(3)下方。