[发明专利]一种量子点OLED发光器件、显示装置及其制备方法在审
申请号: | 202110453512.3 | 申请日: | 2021-04-26 |
公开(公告)号: | CN113193132A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 茆胜 | 申请(专利权)人: | 睿馨(珠海)投资发展有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 上海洞鉴知识产权代理事务所(普通合伙) 31346 | 代理人: | 刘少伟 |
地址: | 519000 广东省珠海市横琴新*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 oled 发光 器件 显示装置 及其 制备 方法 | ||
1.一种量子点OLED发光器件,其特征在于,自下而上依次包括:
一个硅基板;
一个金属阳极层;
一个由多个OLED有机功能层组成的蓝光OLED结构层,包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层;
一个半透明阴极层;
一个量子点层;
一个彩色过滤层;以及
一个玻璃盖板;
在所述量子点层和彩色过滤层的上下层面均设有一个密封薄层。
2.根据权利要求1所述的一种量子点OLED发光器件,其特征在于,所述量子点层包括特定比例的红色量子点材料和绿色量子点材料,所述红色量子点材料和绿色量子点材料的比例为1:1。
3.根据权利要求2所述的一种量子点OLED发光器件,其特征在于,所述量子点层的量子点材料为ZnCdSe2,CdSe,CdTe,CuInS2,ZnCuInS3中的一种或多种,厚度为0.2-2μm。
4.根据权利要求1所述的一种量子点OLED发光器件,其特征在于,所述密封薄层的材料为Al2O3、TiO2、SiN、SiO2中的任意一种或者组合,所述密封薄层的厚度为10~200nm;
所述空穴注入层材料为CuPc、CuSCN、MoO3、HATCN、1-TNATA、2-TNATA、m-MTDATA、TCNQ、F4TCNQ中的任意一种,厚度为10-50nm;
所述空穴传输层材料为TPD、NPB、TCTA、BTPD、DCDPA中的任意一种,厚度为10-50nm;
所述发光层采用蓝色磷光体系,掺杂材料为Flrpic、Flr6中的任意一种,主体材料为CBP、mCP、DCB、PPO1、TPCz、UGH1中的任意一种,所述掺杂材料的占比为1%-15%;
所述电子传输层为Bphen、TBPi、TAZ、PBD中的任意一种,厚度为10-30nm;
所述电子注入层材料为LiF、Li2O、Li、Alq3中的任意一种,厚度为1-10nm。
5.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-4任意一项权利要求所述的量子点OLED发光器件。
6.一种量子点OLED发光器件的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1在硅基板上制备阳极;
S2在所述阳极上蒸镀蓝光OLED结构层;其中,所述蓝光OLED结构层包括空穴注入层、空穴传输层、蓝光发光层、电子传输层、电子注入层;
S3在所述电子注入层制备半透明阴极层;
S4在所述阴极层上采用原子层沉积或磁控溅射的方法制备第一密封层;
S5在所述第一密封层上采用旋涂成膜工艺制备量子点薄膜层;
S6在所述量子点薄膜层上采用原子层沉积或磁控溅射的方法制备第二密封层;
S7在所述第二密封层上采用彩色光刻胶制作RGB彩色滤光层;
S8在所述滤光层上采用原子层沉积或磁控溅射的方法制备第三密封层;
S9在所述第三密封层上贴盖玻璃盖板,即得量子点OLED发光器件。
7.根据权利要求6所述的一种量子点OLED发光器件的制作方法,其特征在于,所述阴极层为双层复合结构,先使用热蒸镀工艺制备镁银比例为10:1的金属层,厚度为5-20nm;再使用磁控溅射工艺,在镁银层上制备ITO层,厚度为30-40nm。
8.根据权利要求6所述的一种量子点OLED发光器件的制作方法,其特征在于,所述量子点薄膜层包括特定比例的红色量子点材料和绿色量子点材料,所述红色量子点材料和绿色量子点材料的比例为1:1;
所述量子点薄膜层的量子点材料为ZnCdSe2,CdSe,CdTe,CuInS2,ZnCuInS3中的一种或多种,厚度为0.2-2μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于睿馨(珠海)投资发展有限公司,未经睿馨(珠海)投资发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110453512.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:分裂栅沟槽功率器件的制造方法
- 下一篇:单极性核辐射探测器及其前置放大电路
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择