[发明专利]光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统

说明书

本发明提供了一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统，该确定方法包括：采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和；将目标位置状态对应的光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。本发明解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。

技术领域

本发明涉及光学基板制造技术领域，尤其涉及一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统。

背景技术

现有半导体制造的标准晶圆为面型平坦的圆形基底，曝光网格布局以已知大小的方形曝光场为单元网格，将基底分割出多个曝光单元，边缘的曝光场网格由于不完整使得曝光场所包含的可用器件数量受网格布局方案的变化而变化。

整个晶圆上最终能曝光出的有用器件数量是影响产率的重要因素。虽然现有技术中通过各种智能寻优算法主要解决了标准晶圆的曝光场网格最优布局的问题，但是由于非标基板面型不平坦等缺陷，由此使得标准晶圆曝光场网格布局方式无法适用于非标基底的曝光场网格布局中。即对于非标基板晶圆而言，其往往由于面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象而并不适合生产器件，从而导致对非标基板晶圆的曝光区域布局的准确度大幅度降低。

有鉴于此，有必要提出一种非标基板曝光区域的确定方法，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于揭示一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统，用以解决现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。

为实现上述目的之一，第一方面，本发明提供了一种光学基板曝光区域的确定方法，包括：

采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；

改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和；

将光学基板中有效曝光场的数量最多或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。

作为本发明的进一步改进，改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量，包括：

以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量；

其中，将光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：

确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与所述目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。

作为本发明的进一步改进，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，包括：

获取与所述凹凸区域相交的每一相交曝光场的中心点，并基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效；

统计不同旋转角度对应的有效相交曝光场、所述外轮廓曲线和凹凸区域边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场之间的有效曝光场总数，以确定有效曝光场总数最多时对应的目标旋转角度。

作为本发明的进一步改进，基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效，包括：