[发明专利]一种光刻机运动台系统在审

专利信息
申请号: 202110450418.2 申请日: 2021-04-25
公开(公告)号: CN113176713A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 张俊杰 申请(专利权)人: 上海图双精密装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海海贝律师事务所 31301 代理人: 宋振宇
地址: 201712 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 机运 系统
【说明书】:

发明公开了一种光刻机运动台系统,包括基座以及位于基座上方的运动台,所述基座的上表面两侧均安装有防扩罩,所述防扩罩为两侧通风结构,且防扩罩的内部安装有并排的收风组件,所述收风组件包括固定在防扩罩内部的中轴,所述中轴的圆周外部转动安装有安装筒,所述安装筒的外部均匀的安装有扇叶,本发明设置了收风组件,在运动台运动的过程中产生的气流可推动扇叶,使得扇叶与安装筒能够发生转动,这样可消耗气流,可避免气流外扩,影响外部传感器的运行,本发明在基座上设置了镂空部,镂空部能够溢出部分气流,进一步避免气流影响基座与运动台上的传感器的运行,设置了减振橡胶,保证了运动台的稳定运行。

技术领域

本发明涉及光刻机技术领域,具体是一种光刻机运动台系统。

背景技术

在半导体光刻过程中,测量并优化产品的套刻精度对于保证产品质量稳定性,提高产品良率至关重要。在集成电路制作过程中,集成电路板不同层次之间的套刻精度对制作的最终产品良率有很大的影响。因此对不同曝光台之间的套刻精度进行匹配十分必要。

光刻机内运动台的垂向空间狭小,当运动台在运动时,会使周围空气产生气流扰动,并且高速运动下的气流扰动产生的局部压力波动不能忽略,会使得运动台附近的高精度传感器及测量组件易受到扰动力的影响。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻机运动台系统,以解决现有技术中运动台在运动时,会使周围空气产生气流扰动,并且高速运动下的气流扰动产生的局部压力波动不能忽略,会使得运动台附近的高精度传感器及测量组件易受到扰动力的影响的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种光刻机运动台系统,包括基座以及位于基座上方的运动台,所述基座的上表面两侧均安装有防扩罩,所述防扩罩为两侧通风结构,且防扩罩的内部安装有并排的收风组件,所述收风组件包括固定在防扩罩内部的中轴,所述中轴的圆周外部转动安装有安装筒,所述安装筒的外部均匀的安装有扇叶。

优选的,所述中轴的两端圆周外部均固接有减振橡胶,减振橡胶用于给中轴减振。

优选的,所述安装筒与扇叶为铝板。

优选的,所述安装筒与扇叶为塑料板。

优选的,所述防扩罩的一端安装有第一排风管。

优选的,所述基座的上表面靠近中部的两侧均设有镂空部,且镂空部的内部安装有金属丝网。

优选的,所述基座的下底面与镂空部对应的位置固接有底部外罩,底部外罩的一端安装有第二排风管

优选的,所述运动台的两端均安装有流线型头部。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

1、本发明设置了收风组件,在运动台运动的过程中产生的气流可推动扇叶,使得扇叶与安装筒能够发生转动,这样可消耗气流,可避免气流外扩,影响外部传感器的运行;

2、本发明在基座上设置了镂空部,镂空部能够溢出部分气流,进一步避免气流影响基座与运动台上的传感器的运行;

3、本发明设置了减振橡胶,这样可避免扇叶转动导致的振动影响到运动台的稳定运行,保证了运动台的稳定运行。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明基座上方视角立体图;

图3为本发明基座下方视角立体图;

图4为本发明收风组件的结构示意图。

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