[发明专利]一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统

说明书

本发明公开了一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统，先扫描待检测的Mask基板得到Mask基板扫描图形，对Mask基板扫描图形进行初步缺陷标记获得初步缺陷点位信息；再根据初步缺陷点位信息对每个初步缺陷点位进行复检，筛选出超标假缺陷点位并判断假缺陷点位数量是否超标，若是，则根据假缺陷点位的类型进行假缺陷点位筛除；最后保留记录缺陷点位信息；本发明对Mask基板的上版位置、关键工艺参数以及设备状态等多个方面全面分析了掩模版AOI假缺陷的产生原因，并针对三类假缺陷分别提出切实有效的改善对策，整体上实现方法简单可靠，能够创造较大的经济效益。

技术领域

本发明涉及掩模版缺陷检测技术领域，具体涉及一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统。

背景技术

掩模版(Photo mask)又称光掩模版、光罩等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩模版是半导体及面板制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版的制造工艺包含光罩基板(Mask Blank)的涂胶、光刻、化学制程(显影、蚀刻)、缺陷扫描及修复等过程，其中利用AOI(AutomatedOptical Inspection，自动光学检查)对缺陷扫描一直是掩模版制造过程中缺陷控制的难点，常规的AOI扫描过程中会有大量的假缺陷存在(假缺陷：非产品自身存在的真实缺陷)，而假缺陷的存在会严重影响产品缺陷的正确判断。

目前，掩模版的AOI系统主要包括自动光学检查设备及数据库服务器，同时搭载Die to Die和Die to DB两种扫描模式，并有四种扫描速度，分别是低倍慢速、低倍快速、高倍慢速及高倍快速。

在工业生产中最常用的是Die to DB的模式，即将客户产品GDS图档导入设备数据库服务器作为标准图像，而自动光学检查设备则对待检测的Mask基板进行扫描得到扫描图形，通过将扫描图像与客户标准设计图档进行对比，自动标记出两者不匹配的点位视为产品缺陷并得到缺陷坐标信息；最后通过数据库服务器加载扫描图像及对应的缺陷信息对以上标记的每一个缺陷点位依次进行人工Review(复检)，核实该缺陷的真实情况，若为真缺陷则标记点位坐标，后续通过LCVD进行修复，若为假缺陷则不做标记。因此，大量的假缺陷存在会成倍增加人工Review的时间，并且可能会造成产品真缺陷漏检的情况，导致后续真陷的漏补、修补时间及工艺难度的增加，甚至造成产品返修、报废、客诉等严重后果。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是在基于AOI系统对掩模版进行缺陷检测过程中会有大量的假缺陷存在(假缺陷：非产品自身存在的真实缺陷)，而假缺陷的存在会严重影响产品缺陷的正确判断，导致后续真缺陷的漏补、修补时间及工艺难度的增加；本发明目的在于提供一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统，解决上述技术问题。

本发明通过下述技术方案实现：

一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法，包括步骤：

S1、扫描待检测的Mask基板得到Mask基板扫描图形；

S2、基于Mask基板扫描图形和Mask基板标准图像对Mask基板扫描图形进行初步缺陷标记获得初步缺陷点位信息；

S3、根据初步缺陷点位信息对每个初步缺陷点位进行复检，筛选出假缺陷点位并判断假缺陷点位数量是否超标：若是，则先判断出假缺陷点位的类型，再根据假缺陷点位的类型进行假缺陷点位筛除；否则，剔除假缺陷点位信息后进入S4；

S4、保留记录缺陷点位信息。

本方案工作原理：掩模版在缺陷扫描过程中，由于Mask基板上版位置、扫描工艺参数以及设备状态等诸多因素的影响，容易造成掩模版AOI假缺陷率高的问题。而大量的假缺陷存在会增加人工复检的时间，并且大量假缺陷堆积后掩盖真缺陷，可能会导致产品真缺陷漏检的情况，后续真缺陷的漏补、修补时间及工艺难度增加等严重质量问题。