[发明专利]光学系统线性测量装置及方法

权利要求书

1.一种光学系统线性测量装置，其特征在于，包括：

光源，发射出光束；

遮光组件，包括遮光片，所述遮光片围绕自身以外的转轴转动，所述遮光片适于在转动过程中使所述光束在通过状态和遮挡状态之间切换；

在所述通过状态，所述遮光片不影响所述光束通过；

在所述遮挡状态，所述遮光片至少部分遮挡所述光束通过。

2.根据权利要求1所述的光学系统线性测量装置，其特征在于，所述遮光组件包括平行设置于所述光束一侧的转台以及垂直连接于所述转台的所述遮光片，所述转轴为所述转台的转动中心。

3.根据权利要求2所述的光学系统线性测量装置，其特征在于，所述光束与所述转台的转动中心相对应。

4.根据权利要求1所述的光学系统线性测量装置，其特征在于，所述光源与所述遮光组件之间的光束传输路径上设置有光强调节组件。

5.根据权利要求4所述的光学系统线性测量装置，其特征在于，所述光强调节组件包括沿所述光束传输路径顺次设置的第一偏振片和第二偏振片。

6.一种光学系统线性测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

依次将遮光片转动至预定的不同位置处，分别获取光学系统的读数；

根据所述读数以及预定算法计算所述光学系统的线性水平。

7.根据权利要求6所述的光学系统线性测量方法，其特征在于，所述依次将遮光片转动至预定的不同位置处，分别获取光学系统的读数包括：

依次将所述遮光片转动至平行于光束的第一位置、遮挡部分所述光束的第二位置、遮挡其余部分所述光束的第三位置、与所述第一位置对称的第四位置、所述第三位置、所述第二位置、所述第一位置以及位于所述第二位置与所述第三位置之间且垂直于所述光束的第五位置；

分别获取所述光学系统的读数：S11、S21、S31、S41、S32、S22、S12、S51。

8.根据权利要求7所述的光学系统线性测量方法，其特征在于，所述预定算法为：

其中，I为光学系统的线性水平。

9.根据权利要求7所述的光学系统线性测量方法，其特征在于，所述第二位置与所述第三位置对称设置。

10.根据权利要求6所述的光学系统线性测量方法，其特征在于，所述依次将遮光片转动至预定的不同位置处，分别获取光学系统的读数之前还包括：

调整光束的入射强度。