[发明专利]一种多级孔分子筛负载金属催化剂及其调控方法和应用

权利要求书

1.一种多级孔分子筛负载金属催化剂，其特征是，所述金属的分散度为70-99％。

2.一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，所述方法包括原子层沉积。

3.如权利要求1所述的一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，所述原子层沉积包括：将多级孔分子筛置于原子层沉积真空腔体中；引入氧化物前驱体蒸气，第一吹扫后再引入氧化剂，进行第二次吹扫；

或，所述多级孔分子筛的制备方法包括：采用原位合成或后处理的方法。

4.如权利要求3所述的一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，所述多级孔分子筛选自ZSM-5、LTL型、β型、Y型、USY、X型、SAPO、MCM中的至少一种。

5.如权利要求3所述的一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，所述真空腔体的温度为50-450℃，优选的，为100-350℃；所述氧化物前驱体的使用温度为25-140℃，优选的，为40-100℃；所述氧化剂的使用温度为室温。

6.如权利要求3所述的一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，以脉冲形式引入氧化物前驱体蒸气，脉冲时间为0.01-5s，前驱体与载体接触时间为5-600s，第一次吹扫时间为20-400s。

7.如权利要求3所述的一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，第一次吹扫后，将氧化剂以脉冲形式引入腔体，氧化剂脉冲时间为0.5-8s，优选的，为2s；氧化剂与金属配体接触时间为5-600s，优选的，为100s。

8.如权利要求3所述的一种调控金属在多级孔分子筛上落位的方法，其特征是，原子层沉积所用到的载气选自氦气、氩气或氮气；载体的流量为20-100sccm；

或，所述氧化剂选自氧气、臭氧、水、甲醇或甲醛；

或，所述氧化物前驱体选自乙酰丙酮铂(II)、二(乙酰丙酮)铂(II)、三甲基-甲基环戊二烯铂、叔丁醇铁、二茂镍、二茂钴、双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)化铜、三甲基镓、二乙基二茂锰、四异丙醇钛、三甲基铝、二乙基锌、二甲基锌、叔丁醇锆、三乙基镓、四(二甲胺)锡、四氯化锡、六氟乙酰丙酮钯、三甲基铟、四乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷和三甲基乙氧基硅烷中的至少一种。

9.一种催化剂，其特征是，采用权利要求2-8任一所述的方法制备而成。

10.权利要求9所述的催化剂或权利要求1所述的一种多级孔分子筛负载金属催化剂在以石脑油为原料的催化加氢脱氧反应中的应用，其特征是，催化反应步骤中，温度为150-800℃，空速为0.1-3.5h^-1，反应压力位0.1-5Mpa。