[发明专利]一种考虑非线性的荧光染色薄膜厚度测量标定方法

权利要求书

1.一种考虑非线性的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，其特征在于，使用不同标准厚度薄膜的荧光照片，基于多项式建立每个像素单元对应的荧光强度与薄膜厚度之间的关系式，根据荧光强度与薄膜厚度之间的关系式构建标定系数方程组并求解，得到标定系数表；对于待测薄膜的荧光照片，基于标定系数表以及薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，计算得到每一像素单元对应的薄膜厚度；

所建立的薄膜厚度与荧光强度之间的关系式为：

其中，为第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度；为第i行、第j列像素单元对应的n阶标定系数；为第i行、第j列像素单元对应的第k张图片的荧光强度；i、j分别为像素单元所在行和列的编号；n为基函数的阶次；N为基函数的总阶数；k为图片编号，k＝1，2,3…K；K为图片总数，且K＝N+1；

标定系数线性方程组如下：

待测像素单元的薄膜厚度为：

其中，为第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度；为第i行、第j列像素单元对应的n阶标定系数；为第i行、第j列像素单元对应的第k张图片的荧光强度；i、j分别为像素单元所在行和列的编号；n为基函数的阶次；N为基函数的总阶数；k为图片编号，k＝1，2,3…K；K为图片总数,且K＝N+1。

2.如权利要求1所述的考虑非线性的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，其特征在于，通过以下步骤实现：

步骤S1:给定需要考虑的多项式阶数N；

步骤S2:拍摄不同标准厚度薄膜的荧光照片，总数为N+1；

步骤S3:对某一像素单元，建立薄膜厚度与荧光强度之间的关系式；

据此构建标定系数线性方程组；

步骤S4:求解步骤S3得到的标定系数线性方程组，得到标定系数数组；

步骤S5:对所有像素单元执行步骤S3-S4，得到标定系数表；

步骤S6:使用同一光学系统，拍摄待测薄膜的荧光照片；

步骤S7:使用S4得到的标定系数表，根据薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，计算每一像素单元对应的薄膜厚度。

3.如权利要求1或2所述的考虑非线性的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，其特征在于，用于采用荧光成像系统测量经荧光染色的液体或固体薄膜厚度时的标定。

4.如权利要求2任所述的考虑非线性的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，其特征在于，拍摄薄膜的荧光照片时要严格对焦到薄膜基准面。