[发明专利]一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法

权利要求书

1.一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一：对光学元件进行古典抛光；

步骤二：对经过古典抛光的光学元件进行真空等离子体抛光。

2.根据权利要求1所述的，其特征在于：所述步骤一中，包括如下步骤：

(1.1)先将光学元件进行预抛光；

(1.2)对光学元件加压到4～8Mpa，机床主轴转速控制在30～40rpm；

(1.3)对抛光模预热；

(1.4)在抛光模上加入抛光液；

(1.5)开始抛光60～90min。

3.根据权利要求1或2所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：所述步骤二中，包括如下步骤：

(2.1)开启真空室，放入经过古典抛光的光学元件，然后将真空室抽至本底压强；

(2.2)向等离子体源中充入工艺气体，所述工艺气体为Ar气、氧气以及SF₆气体；

(2.3)将真空室的压强维持在工作压强20～40Pa；

(2.4)打开射频电源，频率在80～100MHz；

(2.5)开始抛光20～30min；

(2.6)抛光结束后，停止充入工艺气体，将真空室抽至本底压强；

(2.7)打开真空室，取出加工好的光学元件；

(2.8)将真空室抽至0～5Pa状态。

4.根据权利要求2所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：所述步骤(1.1)中，预抛光方法为：先将极性溶剂涂覆在光学元件表面，然后将光学元件置于甩胶机上转动后，再用去离子水冲洗光学元件5～10min。

5.根据权利要求4所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：所述极性溶剂为甲醚或乙二醇。

6.根据权利要求2所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：所述步骤(1.3)中，抛光模预热的方法为：将抛光模放入温水中4～5min。

7.根据权利要求2所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：所述步骤(1.4)中，所述抛光液为浓度为30％～50％的三乙醇胺溶液。

8.根据权利要求3所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：所述步骤(2.2)中，Ar及O₂流量均为50sccm，SF₆流量为10sccm。

9.根据权利要求2所述的用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于：在所述步骤(1.1)中，在进行预抛光之前，先通过磨片对光学元件进行打磨，并在打磨过程中加入水溶性冷却液进行冷却、清洗和润滑。