[发明专利]一种线路板干膜显影机清洗工艺

说明书

本发明公开了一种线路板干膜显影机清洗工艺，属于清洗工艺领域，具体方法为采用质量浓度为60‑100％的甲酸溶液和/或苯甲酸溶液对干膜显影机内的显影槽进行清洗；所述显影槽内残留有干膜，所述干膜的成分包括丙烯酸树脂、丙烯酯单体、乙基‑4‑二亚甲胺苯酸脂和环氧树脂。本发明的清洗工艺简单，无需拆卸喷嘴，只需浸洗循环就能轻松清洗除去污垢，提高了显影槽污垢的清洗能力，清洗周期长。

技术领域

本发明涉及显影机清洗工艺，具体涉及一种线路板干膜显影机清洗工艺。

背景技术

干膜制造线路板的优点：分辨率高，能制造线宽0.1mm的图形，能获得边缘垂直的线条且保证线条的精度，可靠性高，便于掌握，利于机械化和自动化作业，然而在使用干膜显影机过程中，显影机上的滚轮、海绵及各个槽中会附着大量的残膜，甚至喷淋口都有被堵塞的风险，因干膜附着力强，不及时清理会严重影响产品质量及生产效率。现有的干膜显影机保养技术：是使用氢氧化钠+硫酸的先碱后酸洗、冰醋酸(乙酸)洗、显影清槽(洗)剂三种方法，但是这些方法均存在清洗耗时长、物料及人工成本高以及清洗效果不佳等问题，另外，传统清洗剂中的氢氧化钠(无机)：具有强碱性，腐蚀性极强，氢氧化钠等强碱除油污，是利用高温下(30-50℃)油脂在强碱溶液中的皂化反应生成羧酸钠盐和甘油的原理，利用其相溶性清洗；传统清洗剂中的乙酸(有机)：也叫醋酸，是一种有机一元酸，其水溶液中呈弱酸性且蚀性强，也是利用其相溶性清洗。

发明内容

本发明的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种线路板干膜显影机清洗工艺。

本发明的技术解决方案如下：

一种线路板干膜显影机清洗工艺，采用质量浓度为60-100％的甲酸溶液和/或苯甲酸溶液对干膜显影机内的显影槽进行清洗；所述显影槽内残留有干膜，所述干膜的成分包括丙烯酸树脂、丙烯酯单体、乙基-4-二亚甲胺苯酸脂和环氧树脂。

优选地，所述清洗温度为25-30℃

优选地，一种线路板干膜显影机清洗工艺，包含以下步骤：

步骤一：将所述显影槽内的显影液排放后，将甲酸溶液和/或苯甲酸溶液加入显影槽内，开始循环喷淋清洗；

步骤二：喷淋结束后使用自来水清洗。

优选地，所述步骤一中，喷淋清洗时间1-2h。

优选地，所述步骤一中，喷淋压力为1-2kg/cm²。

优选地，所述步骤二中，清洗时间为0.5-1h。

优选地，所述干膜显影机的使用时间在3-5个月，所述清洗时间为≤2h。

优选地，还包括步骤三，将步骤一中循环喷淋后的残液进行回收利用。具体地为：将洗后残液使用专用桶或原药水桶收集存储，在桶上标识使用次数及药水名称、日期；再次保养清洗时再倒入显影槽中,如液位不足时，添加新液补充；可重复使用3次(含首次)。

本发明至少具有以下有益效果之一：

(1)本发明的一种线路板干膜显影机清洗工艺，采用甲酸溶液或苯甲酸溶液，对显影机上的显影槽进行清洗，由于干膜中的丙烯酸类单体上面有羧基和双键，环氧树脂上有环氧基、仲羟基和次甲基上的氢，其中双键和次甲基上的氢接枝反应，羧基又可与环氧基、仲羟基进行酯化反应，因此，去污能力极强。另外，甲酸及其水溶液能溶解许多金属、金属氧化物、氢氧化物及盐,所生成的甲酸盐都能溶解于水，因而可作为化学清洗剂，甲酸不含氯离子，也可用于含不锈钢材料的设备的清洗，属于有机酸性溶剂，能够溶解一些不溶于水的有机物质。