[发明专利]集成电路层间耦合即时更新的粗颗粒并行迭代方法及装置

权利要求书

1.一种集成电路层间耦合即时更新的粗颗粒并行迭代方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S100、将集成电路层间耦合的迭代计算划分为并行计算颗粒，并依据并行计算颗粒的加权CPU时间将并行计算颗粒合并为两类并行计算粗颗粒，第一类并行计算粗颗粒为计算集成电路的层-层的相互影响；第二类并行计算粗颗粒为根据累加的其他层对源层的影响，计算源层的电磁场和电流分布；

步骤S200、集成电路总计为N+1层，各层编号为，当考虑集成电路的第m层电流源时，称该层为第m源层，且设置第m源层的作用层的初始值为除第m源层的其他N层集成电路的层数，即，其中，第0层为底层；设置已迭代次数；

步骤S300、设置集成电路的所有层的；G_lm表示第l层对第m源层并矢格林函数的影响值，；

步骤S400、将当前迭代的所有计算任务按步骤S100所述的两类并行计算粗颗粒划分为不同的计算任务，并将其随机打乱，形成新的计算任务序列；

步骤S500、对空闲进程动态分配计算任务序列中的计算任务，直到所有计算任务分配完毕，记录集成电路各层电磁场的改变量dE_m和所有第l层对第m层并矢格林函数的影响值G_lm的最大值G_max和最小值G_min；

步骤S600、如果，计算所有G_lm的最大值G_max和最小值G_min，计算并矢格林函数的有效影响值，这里thredshold为预先设定的并矢格林函数影响的舍弃阈值；

步骤S700、如果且，迭代结束，输出各层电磁场和电流分布，其中为预先设定的迭代精度；

步骤S800、如果，计算满足条件的G_lm中距离层m最近的层l_near，将更新为；

步骤S900、设置，转入步骤S300。

2.根据权利要求1所述的集成电路层间耦合即时更新的粗颗粒并行迭代方法，其特征在于，所述第一类并行计算粗颗粒和第二类并行计算粗颗粒为相互独立的并行计算颗粒，在计算任何一类并行计算粗颗粒构成的计算任务时，不必等待其他计算任务的执行结果，计算过程中，每个计算任务均分配一个计算进程。