[发明专利]氨解法制备高纯氮化硅粉体方法有效

专利信息
申请号: 202110424082.2 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113148966B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 许立信;刘岳;韩召;万超 申请(专利权)人: 安徽工业大学
主分类号: C01B21/068 分类号: C01B21/068
代理公司: 北京卓胜佰达知识产权代理有限公司 16026 代理人: 张串串
地址: 243000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 氨解 法制 高纯 氮化 硅粉体 方法
【权利要求书】:

1.氨解法制备高纯氮化硅粉体方法,其特征在于,包括以下步骤:

( 1) 、氮化硅前驱体制备

( 1.1) 、向反应容器中加入二氯乙烷、己烷摩尔质量任意配比的溶剂和四氯化硅,控制容器中的温度为-25~-35℃,容器内的压强为当前温度氨气刚开始液化的值;

( 1.2) 、向溶剂中融入液氨,并减小容器中的压强,使得液氨气化沸腾,扰动整个反应体系,获得氮化硅前驱体;

( 1.3) 、将氨气收集加压液化,再次通入溶剂中,实现氨气循环;

( 2) 、前驱体焙烧

( 2.1) 、将获得氮化硅前驱体进行灼烧,灼烧产生的气体收集净化处理;

( 2.2) 、灼烧后的氮化硅前驱体进行破碎处理;

( 2.3) 、破碎后的氮化硅前驱体进行焙烧处理,获得氮化硅粉体。

2.根据权利要求1所述的氨解法制备高纯氮化硅粉体方法,其特征在于:所述溶剂和四氯化硅之间的摩尔配比任意。

3.根据权利要求1所述的氨解法制备高纯氮化硅粉体方法,其特征在于:所述液氨通入的速度为1~5L/min,所述液氨气化速度为0.8~4.5L/min。

4.根据权利要求1所述的氨解法制备高纯氮化硅粉体方法,其特征在于:所述灼烧温度控制为120~180℃,时间为30min。

5.根据权利要求1所述的氨解法制备高纯氮化硅粉体方法,其特征在于:所述焙烧温度控制为800~1200℃,时间为60min。

6.根据权利要求1所述的氨解法制备高纯氮化硅粉体方法,其特征在于:所述灼烧和焙烧均通入保护气体,所述保护气体为氮气、氦气或氩气中的一种。

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