[发明专利]一种镀膜遮挡装置及包含其的镀膜装置

说明书

本发明提供了一种镀膜遮挡装置，包括：驱动部、固定板、镀膜板、支撑板、挡板和滑动结构；第一支撑板和第二支撑板分别设置在固定板的两侧；两个支撑板之间设置有导向杆；镀膜板设置在固定板上，并设置有滑槽和用于放置待加工件的开孔；滑动结构包括滑块和连接杆；导向杆间隔设置在支撑板之间；滑块滑动设置在导向杆上，并与驱动部连接；连接杆的一端与滑块连接，另一端穿过滑槽与挡板连接；挡板在驱动部的作用下，沿滑槽前后移动以挡住或露出待加工件。本发明还提供一种包含该遮挡装置的镀膜装置。本发明能够精确控制镀膜精度和缩短制备时间。

技术领域

本发明涉及光学镀膜领域，具体涉及一种镀膜遮挡装置及包含其的镀膜装置。

背景技术

线性渐变滤光片（LVOF）是继棱镜、光栅以及近期发展的多种光学元件之后发展起来的一种新型分光元件。由于线性渐变滤光片可与CCD/CMOS探测器列阵结合共同构成可识别光谱的探测器，能够大大简化分光系统，提高仪器的可靠性、稳定性和光学效率，而受到越来越多的关注。

目前，线性渐变滤光片的制备方法为：在离子束和待镀工件之间安装一定形状的挡板，离子束刻蚀时，样片以某一恒定速率来回运动，经过一定的刻蚀次数后，获得垂直于样品运动方向上的厚度差异，最终获得设计的间隔层。制备流程包括：首先在基底上进行第一次镀膜，将下层膜系和中间层镀好；其次，按上述方法对中间层进行刻蚀，获得具有一定角度的腔层；最后，配合第二次镀膜，即可完成线性渐变滤光片的制备。这种镀膜方式，因挡板与基片的距离以及与刻蚀离子源的角度问题，会导致控制精度不足。此外，从制备流程上，要先镀膜再刻蚀会，需要二次镀膜，导致制备的时间较长。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种镀膜遮挡装置，通过在镀膜真空室安装该镀膜遮挡装置，能够精确控制精度和缩短制备时间。本发明还提供一种包含该镀膜遮挡装置的镀膜装置。

本发明实施例提供一种镀膜装置，包括：真空室，所述真空室的上方设置有旋转驱动装置，所述真空室的内部设置有弧形旋转架，所述弧形旋转架与所述旋转驱动装置连接，其中，所述弧形旋转架上设置有多个镀膜遮挡装置，所述镀膜遮挡装置，包括：驱动部、固定板、镀膜板、第一支撑板、第二支撑板、第一导向杆、第二导向杆、挡板和滑动结构；所述第一支撑板和所述第二支撑板分别设置在所述固定板的两侧；所述镀膜板设置在所述固定板上，并设置有第一滑槽和第二滑槽以及用于放置待加工件的开孔；所述第一导向杆和所述第二导向杆间隔设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板之间；所述滑动结构包括滑块、第一连接杆和第二连接杆；所述滑块滑动设置在所述第一导向杆和所述第二导向杆上，并与所述驱动部连接；所述第一连接杆和所述第二连接杆的一端分别与所述滑块连接，另一端分别穿过所述第一滑槽和所述第二滑槽与所述挡板连接；所述挡板在所述驱动部的作用下，沿滑槽前后移动以挡住或露出所述待加工件。

本发明实施例提供的镀膜遮挡装置及包含该镀膜遮挡装置的镀膜装置，能够精确控制镀膜精度和缩短制备时间。

附图说明

图1为本发明实施例提供的镀膜遮挡装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的镀膜遮挡装置的仰视图；

图3为本发明实施例提供的镀膜装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1和图2所示，本发明一实施例提供一种镀膜遮挡装置1，包括：驱动部101、固定板102、镀膜板103、第一支撑板104、第二支撑板105、挡板106和滑动结构。