[发明专利]一种用于化学机械抛光的CeO2

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的CeO₂纳米颗粒的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤；

步骤1：将Ce(NO₃)₃·6H₂O与熔盐体系按照摩尔比为1:(10～40)研磨混合，得到混合物；

所述的熔盐体系采用摩尔比为1:(1～2)的烘焙温度为600～800℃的硝酸钾-氯化钾、烘焙温度为600～800℃硝酸钠-氯化钠、烘焙温度为700～900℃氯化钠-氯化钾且中的一种或多种；

步骤2：将步骤1中的混合物倒入无水乙醇中搅拌均匀，得到混合溶液，将混合溶液倒入坩埚中，并置于干燥箱干燥得到混合盐；所述混合溶液中混合物的浓度范围为0.15mol/L～0.3mol/L；

步骤3：将步骤2中的混合盐连同坩埚一起置于马弗炉中，以5℃/min的升温速率自室温升温至熔盐体系的烘焙温度，保温2～4h后自然冷却，取出反应产物经洗涤后得到白色沉淀物；

步骤4：将步骤3中得到的白色沉淀物倒入离心管并置于离心机中离心洗涤，后经干燥研磨得到CeO₂纳米粉体。

2.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的CeO₂纳米颗粒的制备方法，其特征在于：所述步骤2中的搅拌是采用磁力搅拌器搅拌30～60min。

3.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的CeO₂纳米颗粒的制备方法，其特征在于：所述步骤2中的干燥是在50～80℃下干燥3～5h。

4.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的CeO₂纳米颗粒的制备方法，其特征在于：所述步骤3中的洗涤是将反应产物置于烧杯中在磁力搅拌器上，于50～80℃下搅拌30～60min，后用去离子水洗涤3～5次。

5.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的CeO₂纳米颗粒的制备方法，其特征在于：所述步骤4中离心机的转速为5000～9000r/min，使用去离子水离心洗涤。

6.一种根据权利要求1-5任一项所述的制备方法制得的CeO₂纳米颗粒，其特征在于：该纳米颗粒形状为类球形、尺寸在50～350nm范围内分布均匀，且分散性好。