[发明专利]热点及工艺窗监测

权利要求书

1.一种监测工艺缺点的方法，其包括：

使用具有计量目标的叠加工具，其中所述计量目标包括晶片和安置于所述晶片上的至少两个周期性结构，其中所述周期性结构中的至少一者包括沿着所述周期性结构的对应分段方向的重复不对称元件，其中所述重复不对称元件沿着垂直于所述分段方向的方向在内部是周期性的，其中所述重复不对称元件包括沿着所述垂直于所述分段方向的方向的重复子元件，所述子元件在所述分段方向上是不对称的，其中所述子元件包括至少断开一次的线，且其中所述子元件中的至少一些包括沿着所述垂直于所述分段方向的方向的垂直线，所述垂直线连接到所述至少断开一次的线；以及

使用所述叠加工具从所述计量目标导出计量信号。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述子元件包括至少两个平行线段。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述平行线段中的至少一些是互连的。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述线的至少一些互连到所述垂直线中的至少一些。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述子元件中的至少一些沿着所述垂直于所述分段方向的方向互连。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述子元件中的至少一些沿着所述垂直于所述分段方向的方向彼此隔开。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述不对称元件包括垂直于所述分段方向的至少一个不对称定位的线。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述子元件中的至少一者为具有至少六个边的多边形。

9.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括使用所述计量信号监测热点。

10.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括使用所述计量信号监测工艺窗。

11.一种监测工艺缺点的设备，其包括：

叠加工具，其包括处理器和计算机可读存储介质，其中所述处理器经配置以从计量目标导出计量信号，其中所述计量目标包括晶片和安置于所述晶片上的至少两个周期性结构，其中所述周期性结构中的至少一者包括沿着所述周期性结构的对应分段方向的重复不对称元件，其中所述重复不对称元件沿着垂直于所述分段方向的方向在内部是周期性的，其中所述重复不对称元件包括沿着所述垂直于所述分段方向的方向的重复子元件，所述子元件在所述分段方向上是不对称的，其中所述子元件包括至少断开一次的线，且其中所述子元件中的至少一些包括沿着所述垂直于所述分段方向的方向的垂直线，所述垂直线连接到所述至少断开一次的线。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述子元件包括至少两个平行线段。

13.根据权利要求12所述的设备，其中所述平行线段中的至少一些是互连的。

14.根据权利要求11所述的设备，其中所述线的至少一些互连到所述垂直线中的至少一些。

15.根据权利要求11所述的设备，其中所述子元件中的至少一些沿着所述垂直于所述分段方向的方向互连。

16.根据权利要求11所述的设备，其中所述子元件中的至少一些沿着所述垂直于所述分段方向的方向彼此隔开。

17.根据权利要求11所述的设备，其中所述不对称元件包括垂直于所述分段方向的至少一个不对称定位的线。

18.根据权利要求11所述的设备，其中所述子元件中的至少一者为具有至少六个边的多边形。