[发明专利]一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用有效

专利信息
申请号: 202110395963.6 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113047326B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 王建秀;吴凡;李胡博强;龙燕霞;武昭;刘笑天;龙冠宏;何倩倩;薛睿;徐娜 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: E02D19/16 分类号: E02D19/16;C09K17/42
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基坑 水平 帷幕 形成 装置 及其 应用
【说明书】:

发明涉及一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用,该装置包括:至少一个回灌井水驱机构,用于将水灌入基坑底部土层,并形成驱动渗流场,以驱动后续浆液的定向扩散运移;多个回灌井注入机构,用于向土层中灌入浆液;帷幕形成机构,用于向回灌井注入机构中提供浆液;所述的回灌井水驱机构包括内圈回灌井(15),所述的回灌井注入机构包括注入回灌井(23)和中心回灌井,所述的注入回灌井(23)分布在内圈回灌井(15)的外圈,所述的中心回灌井位于内圈回灌井(15)内圈。与现有技术相比,本发明能够实现超深基坑的水平减渗帷幕的形成,对于目前技术无法施作水平帷幕的超深基坑实现良好隔水效果有重大意义。

技术领域

本发明涉及土木工程领域,具体涉及一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用。

背景技术

伴随着城市发展对地下空间需求的不断升级,工程建设所涉及的基坑也不断从浅基坑向深基坑发展。基坑工程出现的问题很多都是由于地下水渗流问题所引起的,造成大量经济损失。

目前的支挡隔渗单通过竖向帷幕难以实现,通过立体帷幕体系来实现超深基坑工程中的降水控制。传统的水平帷幕形成方法多采用搅拌桩、地下连续墙和高压喷射注浆技术施工,其最大施工深度在50m左右,难以在埋深较深的含水层中形成水平帷幕,同时,其施工过程会破坏承压含水层土体的原有结构。

发明内容

本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种能够实现超深基坑的水平减渗帷幕的形成,对于目前技术无法施作水平帷幕的超深基坑实现良好隔水效果有重大意义的超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用。

本发明的目的可以通过以下技术方案来实现:

一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置,该装置包括:

至少一个回灌井水驱机构,用于将水灌入基坑底部土层,并形成驱动渗流场,以驱动后续浆液的定向扩散运移;

多个回灌井注入机构,用于向土层中灌入浆液;

帷幕形成机构,用于向回灌井注入机构中提供浆液;

所述的回灌井水驱机构包括内圈回灌井,所述的回灌井注入机构包括注入回灌井和中心回灌井,所述的注入回灌井分布在内圈回灌井的外圈,所述的中心回灌井位于内圈回灌井内圈。

进一步地,所述的回灌井水驱机构还包括:

抽水泵,用于将外界提供的水抽进内圈回灌井,抽水泵是具备一进一出的抽水排水的仪器;

进水管,用于传输水体;

所述的进水管一端与抽水泵相连,另一端插入内圈回灌井中。

进一步地,所述的回灌井水驱机构还包括:

增压泵,用于增大进水管中流体的水压,可使回灌效率更高;

封闭井盖,用于使增压泵增加的水压不消散;

所述的增压泵设置在进水管上,所述的封闭井盖位于内圈回灌井的顶部,并开设有供进水管插入的进水口。

回灌井水驱机构形成的一定水压的水灌入基坑底部土层,与周围地下水水位之间形成水头差,从而形成以内圈回灌井为锥顶的倒置漏斗状的驱动渗流场驱动后续浆液的定向扩散运移。

进一步地,所述的回灌井注入机构还包括:

浆液储罐,用于存储微生物诱导碳酸钙沉淀浆液;

注射器,用于将浆液储罐中的浆液加到注入回灌井;

进液管,用于传输浆液,进液管是一种特制软胶管,管壁光滑不易残留浆液形成沉淀;

所述的进液管一端与注射器相连,另一端插进注入回灌井中。

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