[发明专利]密封并联平面触发火花隙开关及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202110394775.1 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113224645B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 朱朋;初青芸;杨智;汪柯;沈瑞琪;叶迎华 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01T2/02 分类号: H01T2/02;H01T2/00;H01T1/00;H01T21/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 张玲
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 密封 并联 平面 触发 火花 开关 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种基于PCB工艺的密封并联平面触发火花隙开关,其特征在于,包括底层基片,中间层基片,顶层基片,PP片和焊盘;

所述底层基片上表面和顶层基片的下表面上均设有三电极线路,所述中间层基片上设有上下贯通的矩形腔室,PP片上设有与矩形腔室相对应的矩形缺口;所述三电极线路的厚度为5μm-200μm,三电极线路包括阳极,阴极和触发电极;阳极和阴极为半圆形结构;

所述中间层基片设置在底层基片和顶层基片之间,用于将两个三电极线路隔离;底层基片和中间层基片,以及中间层基片和顶层基片之间通过设置PP片实现压合;压合之后,中间层基片的矩形腔室,底层基片的上表面和顶层基片的下表面形成密封腔室,使得两个三电极线路处于密封腔室内;所述顶层基片上设有焊盘,压合之后的底层基片,中间层基片和顶层基片上设有贯穿的过孔,以实现所述两个三电极线路的并联以及电气导通。

2.根据权利要求1所述的平面触发火花隙开关,其特征在于,所述底层基片,中间层基片和顶层基片为PCB基板,厚度为0.2mm-5mm。

3.根据权利要求2所述的平面触发火花隙开关,其特征在于,中间层基片的贯通的矩形腔室的尺寸为长0.5mm-10mm×宽0.5mm-10mm。

4.根据权利要求3所述的平面触发火花隙开关,其特征在于,所述阳极和阴极的半径为0.5mm-50mm,阳极和阴极间的间隙为0.1mm-10mm;触发电极的宽度为0.1mm-2mm,触发电极与阴极之间的间隙为0.05mm-1mm。

5.根据权利要求4所述的平面触发火花隙开关,其特征在于,所述PP片的材料主要由树脂和玻璃纤维布组成,厚度为10μm-150μm。

6.根据权利要求5所述的平面触发火花隙开关,其特征在于,所述焊盘的材料为Cu,与触发电极相连的焊盘的尺寸小于与阴阳极相连的焊盘的尺寸,三个焊盘尺寸的取值范围为长0.1mm-10mm×宽0.1mm-10mm。

7.一种权利要求1-6任一项所述的密封并联平面触发火花隙开关的制造方法,其特征在于,具体步骤如下:

步骤(1):分别在底层基片和顶层基片上制造平面触发火花隙开关三电极线路;

步骤(2):在中间基片制造贯穿的矩形腔室;

步骤(3):压合;将含有平面触发火花隙开关三电极线路的底层基片、顶层基片和中间层基片通过PP片压合成为一体;

步骤(4):制造过孔;在步骤(3)压合的多个基片上与焊盘位置相匹配的区域设有多个过孔,实现两个三电极线路的电气导通;

步骤(5):制造焊盘;在与三电极线路对应位置的顶层基片的上部设置三个矩形焊盘,实现电气连接。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,步骤(1)中通过贴膜、曝光、显影、蚀刻和去膜工艺制造平面触发火花隙开关三电极线路;

步骤(2)中通过机械钻孔或者激光切割的方式制造贯穿的矩形腔室;

步骤(4)中采用金属化过孔技术制造过孔;

步骤(5)中采用贴膜、曝光、显影、蚀刻和去膜工艺制造焊盘。

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