[发明专利]一种无底漆及活化剂的水转印膜、制备方法及其水转印工艺

权利要求书

1.一种无底漆及活化剂的水转印膜，其特征在于，包括含有图案的底膜及涂覆在表面的粘接层；所述粘接层包括超分子聚合物，所述超分子聚合物的单体包括分子量为900～30000的氨基封端聚二甲基硅氧烷。

2.如权利要求1所述的水转印膜，其特征在于，所述超分子聚合物还包括第二单体，所述第二单体包括异氰酸酯，所述异氰酸酯包括甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯中的至少一种。

3.如权利要求1所述的水转印膜，其特征在于，所述超分子聚合物中，氨基与异氰酸酯的摩尔比为1:1～1.5。

4.如权利要求1所述的水转印膜，其特征在于，所述粘接层还包括溶剂，所述溶剂为氯仿、甲苯、正己烷中的至少一种。

5.如权利要求4所述的水转印膜，其特征在于，所述粘接层中超分子聚合物与溶剂的质量比为1:1～5。

6.如权利要求1所述的水转印膜，其特征在于，所述粘接层的厚度为200～1000μm。

7.如权利要求1～6任一项所述无底漆及活化剂的水转印膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将超分子聚合物单体加入溶剂中并搅拌聚合后作为粘接层涂覆在含有图案的底膜的表面上，即得所述无底漆及活化剂的水转印膜。

8.如权利要求7所述无底漆及活化剂的水转印膜的制备方法，其特征在于，所述搅拌聚合的温度为20～40℃，时间为0.5～3h。

9.如权利要求1～6任一项所述水转印膜的水转印工艺，其特征在于，包括以下步骤：将水转印膜置于水面上，待水转印膜溶解扁平后，将经过表面预处理后的转印物压入水中，使水转印膜上的图案转移至转印物上，随后洗涤干净转印物并干燥，即完成所述水转印过程。

10.如权利要求9所述水转印膜的水转印工艺，其特征在于，所述水转印工艺中使用水的温度为25～45℃，所述干燥的温度为40～60℃。