[发明专利]用于制备多孔石墨烯膜的方法、多孔石墨烯膜和电极在审
| 申请号： | 202110390441.7 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113096973A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 王晓京 | 申请（专利权）人： | 王晓京 |
| 主分类号： | H01G11/86 | 分类号： | H01G11/86;H01G11/26 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 康志梅;陈伟 |
| 地址： | 100123 北京市朝阳区姚*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 制备 多孔 石墨 方法 电极 | ||
1.一种用于制备多孔石墨烯膜的方法，包括：
冷冻干燥氧化石墨烯浆料以形成多孔氧化石墨烯膜，并使用光束和微波照射多孔氧化石墨烯膜以形成多孔还原氧化石墨烯膜。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述氧化石墨烯包括一层或多层多孔氧化石墨烯膜。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述多孔氧化石墨烯膜的每一层包括：
多层的多孔氧化石墨烯片；和
位于两个或多个氧化石墨烯片之间的氧官能团。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，包括使用光或者微波照射除去氧化石墨烯片之间的至少一部分含氧官能团。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，包括通过照射所述多孔氧化石墨烯膜在所述多孔氧化石墨烯膜中进一步产生孔洞。
6.根据权利要求2所述的方法，其中，包括在照射期间移动所述光束或者辐射束相对于所述多孔氧化石墨烯膜的位置。
7.根据权利要求2所述的方法，其中，氧化石墨烯包括多层多孔氧化石墨烯膜，由透明绝缘介电材料隔离。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，通过照射同时还原所述多层氧化石墨烯膜。
9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述氧化石墨烯包括氧化石墨烯溶液。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，还包括：
将石墨氧化以形成氧化石墨；并在溶剂中剥离氧化石墨以形成氧化石墨烯浆料。
11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光束或辐射束包括连续波(CW)激光束或脉冲激光束。
12.根据权利要求1所述的方法，还包括：
使用形成的还原氧化石墨烯制作还原氧化石墨烯电极。
13.根据权利要求1所述的方法，其中，还包括：
辐射后将集流器连接到还原氧化石墨烯。
14.一种多孔还原氧化石墨烯膜，其通过权利要求1-11中的任一项的方法制得。
15.一种还原氧化石墨烯电极，其通过权利要求1-14中任一项的方法制得。
16.一种电容器，其通过权利要求1至14中任一项所述的方法制造。
17.根据权利要求16所述的电容器，其中，所述电容器是超级电容器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王晓京，未经王晓京许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110390441.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种陶瓷盘清洗设备
- 下一篇：一种自闭症情绪认知与干预系统
