[发明专利]图像拼接方法、装置、电子设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202110386060.1 申请日: 2021-04-09
公开(公告)号: CN112927143A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 吕朝辉;罗涛;施佳子;于海燕 申请(专利权)人: 中国工商银行股份有限公司
主分类号: G06T3/40 分类号: G06T3/40;G06T5/50;G06K9/46;G06K9/62
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周天宇
地址: 100140 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 图像 拼接 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像拼接方法,包括:

获取参考图像及待拼接图像对应的待匹配特征点对,将所述待匹配特征点对随机分为M组;

依据每组包含的待匹配特征点对,计算该组对应的第一特征变换矩阵,得到M个第一特征变换矩阵;

计算每一个第一特征变换矩阵对应的适应度值;

随机交换所述适应度值大于预设阈值的第一特征变换矩阵之间的部分矩阵元素,得到N个第二特征变换矩阵;

计算每一个第二特征变换矩阵对应的适应度值;

随机交换所述适应度值大于预设阈值的第二特征变换矩阵之间的部分矩阵元素,得到K个第三特征变换矩阵,依次迭代,直至得到最优的特征变换矩阵;

基于所述最优的特征变换矩阵,对所述参考图像与所述待拼接图像进行拼接。

2.根据权利要求1所述的图像拼接方法,所述图像拼接方法还包括:

针对于至少一个适应度值大于预设阈值的特征变换矩阵,随机改变特征变换矩阵中的部分矩阵元素。

3.根据权利要求1或2所述的图像拼接方法,其中,所述计算每一个第一特征变换矩阵对应的适应度值包括:

根据内点数量、内点偏差距离及内点分散程度,计算所述适应度值,其中,当一待匹配特征点经过特征变换矩阵变换得到的特征点与该待匹配特征点之间的投影误差小于预设值时,该待匹配特征点为内点。

4.根据权利要求3所述的图像拼接方法,其中,所述根据内点数量、内点偏差距离及内点分散程度,计算所述适应度值包括:

根据:

计算所述适应度,其中,V为所述适应度,α、β、γ为系数,P为内点数量,i、j为内点的编号,Si为第i个内点的投影误差,Ai表示第i个内点的特征,Aj表示第j个内点的特征。

5.根据权利要求1或2所述的图像拼接方法,其中,所述随机交换所述适应度值大于预设阈值的第一特征变换矩阵之间的部分矩阵元素包括:

按照所述适应度值对所述第一特征变换矩阵进行排序,选择适应度最高的第一特征变换矩阵与其他第一特征变换矩阵进行矩阵元素交换。

6.根据权利要求1或2所述的图像拼接方法,其中,所述随机交换所述适应度值大于预设阈值的第一特征变换矩阵之间的部分矩阵元素包括:

通过单点交叉交换和/或两点交叉交换的对适应度值大于预设阈值的第一特征变换矩阵之间的部分矩阵元素进行随机交换。

7.根据权利要求6所述的图像拼接方法,其中,所述单点交叉交换包括:

选择第一特征变换矩阵中的一个元素,将该第一特征变换矩阵分成两部分,选择其中一部分与其他第一特征变换中的元素进行交换;

所述两点交叉交换包括:

选择第一特征变换矩阵中的两个元素,将该第一特征变换矩阵分成三部分,选择中间部分与其他第一特征变换中的元素进行交换。

8.根据权利要求2所述的图像拼接方法,其中,所述针对于至少一个适应度值大于预设阈值的特征变换矩阵,随机改变特征变换矩阵中的部分矩阵元素包括:

采用标准正态分布的随机数与特征变换矩阵中的矩阵元素相乘,以改变所述矩阵元素。

9.根据权利要求1所述的图像拼接方法,其中,基于待匹配特征点对的特征,采用最小二乘法计算所述第一特征变换矩阵。

10.根据权利要求1所述的图像拼接方法,其中,所述获取参考图像及待拼接图像对应的待匹配特征点对包括:

分别对所述参考图像及所述待拼接图像进行预处理;

对预处理后的参考图像进行特征提取,得到第一特征点;

对预处理后的待拼接图像进行特征提取,得到第二特征点;

将所述第一特征点与所述第二特征点进行匹配,筛选相同或相似的特征,以作为所述待匹配特征点对。

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