[发明专利]一种模拟污染物在含优先流的多孔介质内部迁移过程的可视化微观通道模型

权利要求书

1.一种模拟污染物在含优先流的多孔介质内部迁移过程的可视化微观通道模型，其特征在于：该模型包括刻蚀在硅晶片上的入口腔，入口段、微通道及其中的微柱阵列、出口段和出口腔，所述的微柱阵列是由多个微柱交错排列而成，且其高度与微通道的深度相同；在硅晶片的顶部设有载玻片，该载玻片与微通道和硅晶片基底实现密封连接。

2.根据权利要求1所述的一种模拟污染物在含优先流的多孔介质内部迁移过程的可视化微观通道模型，其特征在于：所述的微通道长度为730-750微米，宽度为360-380微米，微通道孔隙率为40%-49%。

3.根据权利要求1所述的一种模拟污染物在含优先流的多孔介质内部迁移过程的可视化微观通道模型，其特征在于：微通道内每个微柱的截面为圆形，圆形直径为28-32微米，微柱间距范围为5-25微米。

4.根据权利要求1或2所述的一种模拟污染物在含优先流的多孔介质内部迁移过程的可视化微观通道模型，其特征在于：所述的微通道深度为10-15微米，且微柱高度与微通道的深度相同。

5.根据权利要求1所述的一种模拟污染物在含优先流的多孔介质内部迁移过程的可视化微观通道模型，其特征在于：所述入口腔和出口腔相同且为圆形，直径为1.2-1.7毫米，其深度与微通道深度相同。