[发明专利]一种基于光场角度域变化矩阵的特征点检测方法在审
申请号: | 202110383372.7 | 申请日: | 2021-04-09 |
公开(公告)号: | CN113191369A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 肖照林;张晶瑞;金海燕 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | G06K9/46 | 分类号: | G06K9/46;G06K9/62 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 杨洲 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 角度 变化 矩阵 特征 检测 方法 | ||
本发明公开了一种基于光场角度域变化矩阵的特征点检测方法,具体包括:对光场图像进行解码、预处理,利用光场不同角度间的变化关系,通过提取子孔径图像,对中心子孔径图像进行边缘检测,构建光场角度域变化矩阵M,在角度域变化矩阵M中筛选特定像素点进行差值阈值判断,进而提取出光场数据中的特定点作为特征点,此外,该方法提取出的特征点适合于包含非朗伯表面目标的场景,对视角变化具有更高的鲁棒性,拓宽了特征点检测与识别的适用条件,计算出来的特征点效率高。
技术领域
本发明属于计算机视觉与计算摄影学领域,具体涉及一种基于光场角度域变化矩阵的特征点检测方法。
背景技术
图像特征点检测是计算机视觉应用的一个重要基础。依据图像特征点检测的经典应用包括图像拼接、场景重建、目标识别等。近年来,为突破传统计算机视觉理论和应用的成像性能瓶颈,光场成像技术将计算机视觉及计算摄影学理论相结合,形成了成像领域新的研究热点。光场成像技术通过创新成像模型及数据采集的方式,可同时记录光线传播过程中的位置和角度信息。光场成像技术的本质是采用双平面模型,通过在成像光路上增加微透镜阵列或编码孔径,采用四维参数化方式对空间中光线进行表达,如用(u,v,s,t)来表示每条光线,即一条光线可用其穿过平行双平面的两个坐标点(u,v)和(s,t)唯一确定。由于光场成像数据包含空间光线的角度信息和位置信息,其可实现“先拍照,后聚焦”、景深可控、场景深度可计算等一系列创新成像效果。
目前,图像特征点检测常用方法包括对图像区域、边缘、斑块、角点等进行检测的各种算子,如Harris、SIFT、HoG、SURF、FAST等。然而,对于光场图像特征检测方法仍处于理论探索期。斯坦福大学Donald在传统二维图像上的SIFT特征检测以及描述算子进行扩展,提出四维LIFF特征点,算法效率更高,计算速度更快,基于极平面的光场图像特征检测,无论何种方式都可能存在噪声干扰、图片过大、计算耗时长等问题。本发明提出一种基于光场角度域变化矩阵的特征点检测方法,该方法有效利用了光场不同角度间的变化关系,构建了光场角度域变化矩阵,进而由该矩阵提取出光场数据中的特定点作为特征点。该方法所检测的特征点,对于视角变化更为稳定,能够更好地对场景中非朗伯目标进行检测和表述,拓宽了特征点检测与识别的适用条件。
发明内容
本发明提出一种基于光场角度域变化矩阵的特征点检测方法,即依据光场不同视角的变化特性筛选特征点,解决现有特征点提取对于非朗伯表面视角变化不稳定的问题。
为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:
一种基于光场角度域变化矩阵的特征点检测方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:
步骤1,输入光场图像,对光场图像进行解码、预处理;
步骤2,对预处理后的光场图像提取对应的子孔径图像矩阵,并对其进行编号从(1,1)到(u,v);
步骤3,从步骤2提取出的u*v张不同视角的子孔径图像中选择第张子孔径图像,结合Canny算子对图像进行边缘检测,筛选出梯度变化大的点作为候选特征点,并记录对应的候选特征点对应像素点坐标(i,j);
步骤4,根据步骤3筛选出的候选特征点(i,j),依次遍历所有子孔径图像相同位置像素点(i,j),利用梯度公式计算该像素点的梯度值,存储至角度域变化矩阵M(i,j);
步骤5,在角度域变化矩阵M(i,j)中选取特定像素点进行做差取绝对值,选定特定阈值进行判断,确定该像素点是否可以视为特征点;
步骤6,重复步骤5,直到将所有将候选特征点遍历结束,并作为最终光场图像特征点。
进一步地,所述步骤1具体按照以下方式实施:
步骤1.1,读入光场图像和其对应的微透镜中心数据文件;读入的微透镜中心数据包括微透镜阵列大小,微透镜阵列的旋转角,微透镜的水平间隔和垂直间隔,微透镜阵列的每个微透镜的中心点的对应坐标;
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