[发明专利]一种基于铁石斛的美容原料智能配比系统有效

专利信息
申请号: 202110382231.3 申请日: 2021-04-09
公开(公告)号: CN113083062B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 宋飒飒;徐超越;叶玉婷;宋仙水;宋敏全 申请(专利权)人: 浙江铁枫堂药业有限公司
主分类号: B01F7/16 分类号: B01F7/16;B01F13/10;B01F15/00;B01F15/04;B01F3/00;B01F3/12;B01F3/20;A61K8/65;A61K8/92;A61K8/9789;A61K8/9794;A61Q19/00
代理公司: 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 代理人: 申超平
地址: 325000 浙江省温州市乐清市龙西乡北垟村*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 铁石 美容 原料 智能 配比 系统
【权利要求书】:

1.一种基于铁石斛的美容原料智能配比系统,其特征在于,包括:清洗单元、烘干单元、杀菌单元、研磨单元、混合单元和中控单元;

所述清洗单元用以对制备美容原料的中草药进行清洗,去除中草药表面污浊物;

所述烘干单元与所述清洗单元相连用以对中草药进行烘干,所述烘干机上设有湿度检测仪用以检测中草药含水量,以确定烘干温度与烘干时长;

所述杀菌单元与所述烘干单元相连,杀菌单元设有紫外线灯,用以对中草药进行杀菌;

所述研磨单元与所述杀菌单元相连,用以对制备美容原料的中草药进行研磨;

所述混合单元设有混合仓用以将各中草药进行混合制备美容原料;

所述中控单元与所述清洗单元、所述烘干单元、所述杀菌单元、所述混合单元和所述研磨单元分别相连,用以调控各部件运行状态;

当采用所述智能配比系统对中草药进行配比时,首先将各中草药进行清洗、烘干、杀菌及研磨,通过研磨成的粉剂配比美容原料;

当对铁石斛进行清洗时,所述中控单元内设有清洗基础时长T1、清洗铁石斛基础质量A、铁石斛实际质量与基础质量差值的绝对值矩阵B0和铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数矩阵C0;检测待清洗铁石斛实际质量Ax并将检测结果输入至所述中控单元,中控单元根据待清洗铁石斛实际质量Ax与清洗铁石斛基础质量A的关系,调节清洗时长;

当对铁石斛进行烘干时,所述中控单元内还设有烘干预设时长T2、烘干预设温度W、标准含水量值E、铁石斛实际质量对烘干时长补偿参数矩阵D0、实际含水量与标准含水量差值矩阵G0、铁石斛含水量对补偿烘干时长调节参数矩阵F0;中控单元根据待清洗铁石斛实际质量Ax与清洗铁石斛基础质量A的关系,将烘干时长调节至T2’;

当烘干时长达到T2’时,检测铁石斛含水量,中控单元将铁石斛含水量与标准含水量值E进行对比,判断是否需要补偿铁石斛烘干时长并根据对比结果计算补偿时长;

所述杀菌单元设有压力传感器,所述压力传感器能够检测烘干后的铁石斛质量,所述中控单元内设有杀菌时长参数T3、铁石斛基本研磨时长T4、标准研磨质量Ab和铁石斛质量对研磨时长调节参数矩阵P0;当对铁石斛进行紫外线杀菌并经过时长T3时,所述压力传感器检测铁石斛质量Az并将检测结果传递至中控单元, 所述中控单元计算烘干的铁石斛质量与标准研磨质量差值的绝对值ΔQ,中控单元将ΔQ与烘干的铁石斛质量与标准研磨质量差值的绝对值矩阵Q0内参数进行对比,通过对比结果将铁石斛研磨时长调节为T4’;

当对铁石斛研磨完成后,按照上述铁石斛清洗、烘干、杀菌及研磨流程对制备所述美容原料的其他中草药进行清洗、烘干、杀菌及研磨。

2.根据权利要求1所述的基于铁石斛的美容原料智能配比系统,其特征在于,对于铁石斛实际质量与基础质量差值的绝对值矩阵B0,B0(B1,B2,B3),其中,B1为铁石斛实际质量与基础质量第一预设差值的绝对值,B2为铁石斛实际质量与基础质量第二预设差值的绝对值,B3为铁石斛实际质量与基础质量第三预设差值的绝对值,各所述绝对值按照顺序依次增大;

对于铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数矩阵C0,C0(C1,C2,C3),其中,C1为第一预设铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数,C2为第二预设铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数,C3为第三预设铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数,各所述参数按照顺序依次增大;

中控单元计算铁石斛实际质量与基础质量差值的绝对值ΔA,ΔA=∣Ax-A∣,中控单元将绝对值ΔA与铁石斛实际质量与基础质量差值的绝对值矩阵B0内参数做对比:

当ΔA≤B1时,所述中控单元判定待清洗铁石斛质量在合理范围内,不调节清洗基础时长;

当B1<ΔA≤B2时,所述中控单元判定待清洗铁石斛质量超差并从矩阵C0中选取C1作为铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数;

当B2<ΔA≤B3时,所述中控单元判定待清洗铁石斛质量超差并从矩阵C0中选取C2作为铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数;

当ΔA>B3时,所述中控单元判定待清洗铁石斛质量超差并从矩阵C0中选取C3作为铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数;

当中控单元选取Ci作为铁石斛实际质量对清洗时长补偿参数时,i=1,2,3,中控单元将铁石斛清洗时长调节为T1’,当Ax>A时,T1’=T1+ΔA×Ci;当Ax<A时,T1’=T1-ΔA×Ci。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江铁枫堂药业有限公司,未经浙江铁枫堂药业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110382231.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top