[发明专利]含Cr(VI)废水光化学处理装置和方法

权利要求书

1.含Cr(VI)废水光化学处理装置，包括光源、光源控制系统和光化学反应单元，其特征在于：所述光化学反应单元包括蛇形管（1），所述蛇形管（1）的两端开口，所述光源设置在蛇形管（1）的外部，所述蛇形管（1）包括成排平行设置的直管（1a）以及相应数量用于将直管（1a）按顺序依次连接的U形弯管（1b）；

在所述U形弯管（1b）的弯曲段的外弧面上开设有导光孔（1b1），在所述导光孔（1b1）处设有用于将光源与蛇形管（1）内的反应液隔离开来的第一透明隔离部件，所述光源发出的光线经第一透明隔离部件射入蛇形管（1），在某些直管（1a）的侧壁上同时开设有第一监测孔（1a1）和第二监测孔（1a2），所述第一监测孔（1a1）与第二监测孔（1a2）在相应直管（1a）的轴线方向上间隔有一段距离，于所述第一监测孔（1a1）和第二监测孔（1a2）处设有第二透明隔离部件，在所述第二透明隔离部件的外侧安装有用于检测该处光照强度的光线感应装置，通过所述第二透明隔离部件将光线感应装置与蛇形管（1）内的反应液隔离开来；

在对含Cr(VI)废水进行光化学处理时，于光化学反应刚开始时，调节所述光源的功率使第一监测孔（1a1）处的光照强度处在预设范围之内，在光化学反应过程中，籍由所述光源控制系统根据第一监测孔（1a1）与导光孔（1b1）的距离、位于同一根直管上的第一监测孔（1a1）和第二监测孔（1a2）的间隔距离以及第一监测孔（1a1）和第二监测孔（1a2）处光线感应装置所检测到的光照强度变化情况来计算当前较反应刚开始时因沉积物覆盖状况变化所导致的第一监测孔（1a1）处光照强度上升或下降值，并根据所述当前较反应刚开始时因沉积物覆盖状况变化所导致的第一监测孔（1a1）处光照强度上升或下降值来调节光源的功率，使所述第一监测孔处（1a1）的光照强度保持在预设范围之内。

2.根据权利要求1所述的含Cr(VI)废水光化学处理装置，其特征在于： 所述光源包括发光器件以及与发光器件相连的第一导光光纤（2），通过所述第一导光光纤（2）将发光器件发出的光传导至导光孔（1b1）并经第一透明隔离部件射入蛇形管（1）内。

3.根据权利要求2所述的含Cr(VI)废水光化学处理装置，其特征在于：在所述导光孔（1b1）的内壁设有内螺纹并通过螺纹固定安装有光纤固定组件（3），所述光纤固定组件（3）包括定位套（3a）、光纤夹紧片（3b）和压紧套（3c），所述第一透明隔离部件为光纤保护头（3d）；

所述定位套（3a）的外周面上设有与导光孔（1b1）内壁所设置的内螺纹相匹配的外螺纹，所述定位套（3a）的内孔下部直径小于其上部直径，从而在所述定位套（3a）的内壁上形成承托台阶（3a1），所述定位套（3a）上部内壁设有内螺纹，所述定位套（3a）的顶部沿径向延展变大形成能够用扳手卡住的旋拧部；

所述压紧套（3c）轴向开设有与第一导光光纤（2）直径相适应的通孔，所述压紧套（3c）的外周面上设有与定位套（3a）内壁所设置的内螺纹相匹配的外螺纹，所述压紧套（3c）的顶部其径向延展变大也形成能够用扳手卡住的旋拧部；

所述光纤保护头（3d）包括底端封闭且外径尺寸与定位套（3a）内孔下部直径相适应的套筒（3d1），所述光纤保护头（3d）的顶端沿径向延展变大形成限位台阶（3d2），所述光纤保护头（3d）的内孔直径与第一导光光纤（2）直径相适应且其底端透明；

所述光纤夹紧片（3b）包括一个垫圈（3b1），所述垫圈（3b1）为碟型垫圈或者所述垫圈（3b1）中靠近其内圈的部位相较于其它部位倾斜翘起，所述垫圈（3b1）上环形间隔开设多条切口（3b2），所述切口（3b2）自垫圈（3b1）的内圈沿径向往外延伸；

所述定位套（3a）通过螺纹连接于导光孔（1b1）中，所述第一导光光纤（2）从压紧套（3c）的内孔、光纤夹紧片（3b）的内圈中依次穿过且其头端插入光纤保护头（3d）的内孔中并抵靠住光纤保护头（3d）的底端，所述光纤保护头（3d）则插入定位套（3a）的内孔中且其限位台阶（3d2）抵靠住定位套（3a）的承托台阶（3a1），所述压紧套（3c）通过螺纹连接在定位套（3a）的内孔中，所述光纤夹紧片（3b）位于光纤保护头（3d）与压紧套（3c）之间，所述压紧套（3c）的底端压住光纤夹紧片（3b）以使其抵靠住光纤保护头（3d）的顶端，所述光纤夹紧片（3b）被压紧套（3c）压平整后，其内圈直径变小，进而夹紧从所述内圈中穿过的第一导光光纤（2）。