[发明专利]医用器件有效

专利信息
申请号: 202110376269.X 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN113230462B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 王姣姣;孙灿;周奇;姚瑶;李俊菲 申请(专利权)人: 上海微创医疗器械(集团)有限公司
主分类号: A61L31/02 分类号: A61L31/02;A61L31/08;A61L31/14;A61L31/16;C23C28/00;C25D3/04;C25D3/50;C25D3/54;C25D3/56;C25D9/04;C23C22/06
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 侯武娇
地址: 200135 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 医用 器件
【权利要求书】:

1.一种医用器件,其特征在于,包括基体及包覆于所述基体的第一涂层,所述基体含有含量≥5wt%的金属元素X,所述基体为能够发生塑性形变的基体,所述金属元素X为Cr、W、Mo及贵金属元素中的至少一种,所述第一涂层中不含有镍或钴;

所述第一涂层为所述金属元素X的合金层和所述金属元素X的金属陶瓷层中的至少一种与所述金属元素X的单质金属层形成的叠层,所述第一涂层的总厚度为100nm~300nm;

在所述第一涂层中,所述单质金属层为与所述基体直接接触的内层,所述合金层和所述金属陶瓷层中的至少一种为远离所述基体的外层,所述医用器件的任意相邻两层不同材质的层结构之间的自腐蚀电位差为100mV以内。

2.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述单质金属层为经过钝化处理的金属涂层;或者

当所述第一涂层为所述单质金属层和所述金属陶瓷层形成的叠层时,所述单质金属层位于所述基体与所述金属陶瓷层之间;或者

当所述第一涂层为所述单质金属层和所述合金层形成的叠层时,所述单质金属层位于所述基体与所述合金层之间。

3.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述第一涂层为所述单质金属层、所述合金层及所述金属陶瓷层三者形成的叠层;在所述第一涂层中,所述单质金属层为内层,所述合金层为中间层,所述金属陶瓷层为外层。

4.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述金属陶瓷层的材质为所述金属元素X的氧化物、碳化物、氮化物、硅化物和硼化物中的至少一种。

5.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述金属元素X在所述基体中的含量为7wt%~60wt%。

6.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述金属元素X在所述基体中的含量为9wt%~60wt%。

7.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,

所述基体的材质选自不锈钢、钴基合金、钛合金、贵金属合金或镍钛形状记忆合金。

8.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述金属元素X为Cr、W、Mo或Pt中的一种。

9.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述第一涂层含有所述金属陶瓷层,所述医用器件还包括设于所述金属陶瓷层上的第二涂层;

其中,所述金属陶瓷层为所述金属元素X的碳化物,所述第二涂层为碳层;或者

所述金属陶瓷层为所述金属元素X的硅化物,所述第二涂层为硅层。

10.如权利要求1所述的医用器件,其特征在于,所述医用器件的任意相邻两层不同材质的层结构之间的自腐蚀电位差为80mV以内。

11.如权利要求1至10任一项所述的医用器件,其特征在于,所述医用器件还包括设于所述第一涂层表面的药物活性层。

12.如权利要求11所述的医用器件,其特征在于,所述第一涂层形成有载药凹槽,所述药物活性层设于所述载药凹槽内。

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