[发明专利]MEMS器件的ESD保护系统在审
申请号: | 202110373346.6 | 申请日: | 2021-04-07 |
公开(公告)号: | CN113104803A | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 大卫·莫林诺·吉尔斯 | 申请(专利权)人: | 瑞声科技(南京)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81B7/00 |
代理公司: | 深圳紫辰知识产权代理有限公司 44602 | 代理人: | 万鹏 |
地址: | 210046 江苏省南京市栖霞区仙林*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | mems 器件 esd 保护 系统 | ||
本发明提供了一种MEMS器件的ESD保护系统,其包括控制电路、电性连接所述控制电路的MEMS器件以及电性连接控制电路且与MEMS器件并联的ESD保护装置,ESD保护装置包括电性连接控制电路的上电极组件、具有悬臂弹性的悬臂以及下电极组件,悬臂包括电性连接所述控制电路的第一电极层、电性连接MEMS器件的第二电极层以及电性连接第二电极层的可动金属触点,下电极组件包括电性连接MEMS器件的下电极层、电性连接下电极层且与可动金属触点相对的固定金属触点。本发明MEMS器件的ESD保护系统的ESD保护装置能够比MEMS器件提前对ESD事件反应且耗散静电放电电压,从而有效的保护MEMS器件。
【技术领域】
本发明涉及MEMS器件领域,尤其涉及一种MEMS器件的ESD保护系统。
【背景技术】
针对普通集成电路(IC)器件的可靠性造成伤害的主要原因就是静电放电(ESD),尤其是针对MEMS器件,例如RF MEMS开关。ESD是一种常见的近场危害源,可形成高电压,强电场,瞬时大电流,并伴有强电磁辐射,形成静电放电电磁脉冲,大量的电荷在相对较短的时间里从一个物体快速的转移到另一物体,从而形成一个峰值电流对IC器件造成显著的伤害。
因此,实有必要提供一种新的MEMS器件的ESD保护系统解决上述技术问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种MEMS器件的ESD保护系统,以解决相关技术中的MEMS器件遭到ESD事件伤害的问题。
为了达到上述目的,本发明提供了一种MEMS器件的ESD保护系统,其包括控制电路、电性连接所述控制电路的MEMS器件以及电性连接所述控制电路且与所述MEMS器件并联的ESD保护装置,所述ESD保护装置包括电性连接所述控制电路的上电极组件、具有弹性的梁悬臂弹性的悬臂以及下电极组件,所述梁悬臂包括电性连接所述控制电路的第一电极层、电性连接所述MEMS器件的第二电极层以及电性连接所述第二电极层的可动金属接触端金属触点,;所述下电极组件包括电性连接所述MEMS器件的下极层下电极层、电性连接所述下极层下电极层且与所述可动金属接触端金属触点相对设置的固定金属接触端金属触点。
优选地,所述ESD保护装置还包括具有收容腔的本体壳体,所述梁悬臂收容于所述收容腔且被所述本体壳体弹性支撑。
优选地,所述本体壳体包括顶壁、底壁以及连接所述顶壁、和所述底壁的侧壁,所述上电极组件固定于所述顶壁,所述下电极组件固定于所述底壁,所述梁悬臂固定于所述侧壁。
优选地,所述ESD保护装置还包括弹性件,所述弹性件的一端连接所述梁悬臂、另一端连接所述侧壁。
优选地,所述上电极组件包括若干相互间隔设置的的上电极片、封装所述上电极片的上氧化层以及至少一个自所述上氧化层朝所述梁悬臂延伸的凸出部。
优选地,所述梁悬臂还包括封装所述第一电极层的第一氧化层、封装所述第二电极层的第二氧化层,所述可动金属接触端金属触点暴露于所述第二氧化层外面。
优选地,所述第一氧化层、第二氧化层由一体成型,
优选地,所述下电极组件还包括封装所述下电极层的下氧化层,所述固定金属接触端金属触点暴露在所述下氧化层外面。
优选地,所述ESD保护装置的梁悬臂的面积大于所述MEMS器件的梁悬臂的面积。
优选地,所述可动金属接触端金属触点与所述固定金属接触端金属触点之间的接触电阻比MEMS器件的电阻低。
优选地,所述控制电路包括CMOS电路以及电性连接所述CMOS电路的高压输入,所述MEMS器件与所述ESD保护装置均电性连接所述高压输入,所述CMOS电路用于控制所述高压输入与所述MEMS器件或所述ESD保护装置电性连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞声科技(南京)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司,未经瑞声科技(南京)有限公司;瑞声声学科技(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110373346.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。