[发明专利]一种纳米颗粒复合磁芯膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110373226.6 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113192720B 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 白飞明;邹想;张怀武 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01F10/12 分类号: H01F10/12;H01F10/18;H01F10/187;H01F41/18;H01F41/22;H01F41/30;H01F27/24
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 颗粒 复合 磁芯膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种纳米颗粒复合磁芯膜,其特征在于,所述复合磁芯膜包括铁磁金属与X’O的复合颗粒,以及包覆于复合颗粒表面的XO非晶颗粒层,复合颗粒与非晶颗粒层形成核-壳结构;其中,铁磁金属的氧化物生成焓的绝对值<X’的氧化物生成焓的绝对值<X的氧化物生成焓的绝对值;所述复合磁芯膜中,铁磁金属的体积百分比为60%~80%,X’O的体积百分比为10%~30%,XO的体积百分比为10%~30%;

其中,所述铁磁金属为Fe、Co、Ni、FeCo、NiFe或CoNiFe,所述X’O为TiO2,所述XO为MgO或Al2O3

2.一种如权利要求1所述纳米颗粒复合磁芯膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、以铁磁金属、X’和XO的复合靶材作为靶材,采用磁控溅射法制备复合膜,其中,溅射功率为3~6W/cm2,溅射气压为0.1~0.5Pa,诱导磁场大小为100~500Oe,方向为平行于薄膜平面,复合膜的厚度为100~500nm;

步骤2、将步骤1得到的复合膜在氧化气氛中进行退火处理,退火温度为150~350℃,时间为10min~5h,气氛为氧气或空气,退火完成后,自然冷却至室温,取出,即可得到所述复合磁芯膜。

3.根据权利要求2所述的纳米颗粒复合磁芯膜的制备方法,其特征在于,步骤2中,氧气气压或分压为10~10000Pa。

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