[发明专利]一种易剥离的UV减粘保护膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110373153.0 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113088209B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 柯跃虎;诸葛锋;宋亦健;曾庆明 申请(专利权)人: 广东硕成科技有限公司
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/30;C09J7/50;C09J133/08;C09J11/08;C09J11/06
代理公司: 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 代理人: 汤俊明
地址: 512000 广东省韶关市乳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 剥离 uv 保护膜 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及保护膜技术领域,具体涉及一种易剥离的UV减粘保护膜及其制备方法。所述一种易剥离的UV减粘保护膜从下至上依次为保护膜基材层,底涂层,粘合层和离型膜层。本发明提供的一种易剥离的UV减粘保护膜经UV照射后具有优异的UV减粘效果,有效防止了保护膜剥离后对产品的伤害;而且稳定好,保质期长。

技术领域

本发明涉及保护膜技术领域,具体涉及一种易剥离的UV减粘保护膜及其制备方法。

背景技术

随着社会的发展,电子产品的制备质量也要求越来越高,这对与辅助电子产品生产密切相关的材料的要求也随之提升。其中在电子产品制作过程中如贴片电子元件,半导体晶片表面的加工,片式电感制作过程中的定位切割等都离不开保护膜的作用,减粘膜就是电子产品制作过程中一种常用的辅材。

UV减粘保护膜具有固化速度快,固化设备简单,短时间内可是实现完全剥离等众多优异性能,被人们广泛应用。但目前世面上常用的UV减粘保护膜也存在着众多问题,比如初始剥离力低,初始粘度大,成膜后容易自动减粘,有效期短,容易粘灰,静电,残胶等等。这些问题的存在会使得UV减粘保护膜从电子产品表面剥离时容易导致电子产品的损伤,严重制约了UV减粘保护膜在电子产品半导体,保护晶圆等方面的应用。

鉴于此,特提出本发明。

发明内容

为了解决上述技术问题,本发明的第一个方面提供一种易剥离的UV减粘保护膜,从下至上依次为保护膜基材层,底涂层,粘合层和离型膜层。

优选的,所述粘合层的原料包括,按照重量份计,丙烯酸单体26-58份,促进剂3-10份,引发剂1-3份,稀释剂22-50份。

优选的,所述丙烯酸单体包括三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯,(丙氧基)丙三醇三丙烯酸酯,(乙氧基)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯,丙烯酸,丙烯酸异辛酯,季戊四醇三丙烯酸酯,丙烯酸正丁酯,四乙二醇二丙烯酸酯,二甲基丙烯酸乙二醇酯,甲基丙烯酸甲酯,新戊二醇二丙烯酸酯,1-4丁二醇二丙烯酸酯,丙烯酸乙酯,三羟甲基丙烷三丙烯酸酯的一种或几种。

优选的,所述促进剂包括植物油,液体石蜡,石油树脂,有机酸,叔胺化合物,有机硫化物,醛胺,硫脲中的至少一种。

更进一步优选的,所述促进剂包括叔胺化合物,液体石蜡和有机酸。

优选的,所述叔胺化合物包括苄基二甲胺、三乙胺、三乙醇胺,二甲基乙醇胺,N,N-二甲基苯胺,吡啶,DBU,DMP-10,DMP-30中的至少一种。

优选的,所述引发剂包括有机过氧化物和鎓盐化合物中的至少一种。

优选的,所述稀释剂包括丙烯酸月桂酯,三羟甲基丙烷三丙烯酸酯,季戊四醇丙烯酸酯,二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯中的至少一种。

本发明的第二个方面提供了一种易剥离的UV减粘保护膜的制备方法,包括以下步骤:

1)将交联剂和底涂剂涂布于基材层表面,烘干固化在基材层表面形成底涂层;

2)按照配方称取粘结层各组分原料,将丙烯酸单体,促进剂,引发剂,稀释剂加入反应容器,再加入乙酸乙酯,混合搅拌均匀,将得到用的混合物均匀涂布于底涂层上,形成粘合层;在粘合层表面贴覆离型膜层,反应1.5-2h后,熟化,得到所述UV减粘膜。

优选的,所述引发剂分次加入,第一次加入引发剂重量的70-80wt%,反应80-100min后加入剩余引发剂,得到混合物。

有益效果:

1)本发明提供的一种易剥离的UV减粘保护膜UV照射前,粘结力强,UV照射后粘结力弱,具有优异的UV减粘效果,有效防止了保护膜剥离后对产品的伤害。

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