[发明专利]一种基于刻蚀压电薄膜的高机电耦合系数声表面波器件在审

专利信息
申请号: 202110371349.6 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113098419A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 潘峰;徐惠平;曾飞;傅肃磊;沈君尧;苏荣宣 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/64
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 任晓云
地址: 100084 北京市海淀区1*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 刻蚀 压电 薄膜 机电 耦合 系数 表面波 器件
【权利要求书】:

1.一种声表面波器件,从下至上依次包括高声速衬底,部分刻蚀压电薄膜和顶电极。

2.根据权利要求1所述的声表面波器件,其特征在于:所述部分刻蚀压电薄膜的总厚度为h,刻蚀部分深度为d,刻蚀比例d/h为0<d/h≤1。

3.根据权利要求1或2所述的声表面波器件,其特征在于:所述顶电极为叉指电极,对叉指之间压电薄膜进行部分刻蚀;

所述顶电极的厚度为t1

所述顶电极的宽度和未刻蚀压电薄膜的宽度保持一致为w;

金属化比为2w/λ,0.1≤2w/λ≤0.9;

顶电极归一化厚度为t1/λ,0<t1/λ≤0.3;具体可为0.01≤t1/λ≤0.13;

压电薄膜归一化厚度为h/λ,0<h/λ≤3;具体可为0.5≤h/λ≤1;

所述λ为声表面波的波长;

所述声表面波的波长λ为1μm≤λ≤5μm;具体可为2μm。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的声表面波器件,其特征在于:所述叉指之间压电薄膜的刻蚀形状为柱状,具体可为长方柱;

压电薄膜的刻蚀部分紧挨顶电极一侧。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的声表面波器件,其特征在于:所述高声速衬底和所述部分刻蚀压电薄膜之间增加底电极;

具体的,所述底电极的材料为以下一种金属或者两种金属的二元合金:Al、Cu、Pt、Mo、W、Ni。

6.根据权利要求5所述的声表面波器件,其特征在于:所述底电极的厚度为t2,底电极归一化厚度为t2/λ,0<t2/λ≤0.3,具体可为0.01≤t2/λ≤0.1。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的声表面波器件,其特征在于:所述高声速衬底为碳化硅基片,蓝宝石基片或金刚石基片;

所述顶电极的材料为以下一种金属或者两种金属的二元合金:Al、Cu、Pt、Mo、W、Ni。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的声表面波器件,其特征在于:所述部分刻蚀压电薄膜为氧化锌薄膜或掺杂氧化锌薄膜;

所述掺杂氧化锌薄膜的掺杂元素为Cr、Fe或V。

9.权利要求1-8中任一项所述的声表面波器件在制备滤波器中的应用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110371349.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top