[发明专利]一种甘草提取物护肤品组合物及其制备方法

说明书

本发明属于护肤品技术领域，具体涉及一种甘草提取物护肤品组合物及其制备方法；本发明旨在提供提供了一种稳定性强的，天然、安全、低敏的能抗炎舒缓修复的化妆品；本发明包括甘草提取物1.5‑6wt%，卡瓦胡椒提取物0.1‑1wt%、豆浆发酵产物1‑3wt%，二裂酵母发酵产物溶胞物0.5‑1.5wt%；本发明采用的甘草提取物、卡瓦胡椒提取物和二裂酵母发酵产物溶胞物可以有效促进人体表皮细胞的增殖代谢，同时也具有良好地抗炎作用，帮助问题肌肤生长和抑制炎症，使肌肤恢复正常的状态，甘草提取物、卡瓦胡椒提取物和二裂酵母发酵产物溶胞物还可以有效地抵抗皮肤的氧化，减缓皮肤衰老，而本发明中含有的豆类发酵物可以通过抑制有害菌生长促进有益菌繁殖来控制皮肤微生态。

技术领域

本发明涉及护肤品技术领域，具体涉及一种甘草提取物护肤品组合物及其制备方法。

背景技术

化妆品是为了美化、保留或改变人的外表(例如为了表演)而用于人体的调剂(除肥皂)，或为了净、染、擦、矫正或保护皮肤、头发、指甲、眼睛或牙齿而用的调剂。

随着人类外部生存环境被污染和破坏的越来越严重，有毒有害污染物,例如PM2.5，对皮肤表皮造成伤害的可能性也逐渐增加。此外，长期使用人工合成的化学制品以及微创美容，对皮肤屏障的损伤也在加剧。因此，爱美人士都需要可舒缓修复皮肤的护肤品或化妆品，以修复外界环境及化学制品对人皮肤的损害。

目前，舒缓修复用产品大部分都添加了动物来源的成分或者添加了化学防腐剂，例如中国专利文献CN109498500A公开了一种活性肽抗炎修复组合物及其精华液和制备方法，该活性肽抗炎修复组合物具有显著的抗炎和修复受损皮肤的功效，但该活性肽抗炎修复组合物中添加了防腐剂，安全性低，已引起使用者的过敏风险。因此，需要一种无动物来源成分和化学防腐剂添加的，稳定性强的，天然、安全、低敏的能抗炎舒缓修复的化妆品。

发明内容

本发明提出一种甘草提取物护肤品组合物，提供了一种稳定性强的，天然、安全、低敏的能抗炎舒缓修复的化妆品。

本实用的技术方案是这样实现的：一种甘草提取物护肤品组合物，所述组合物原料包括以下组分：甘草提取物1.5-6wt％，卡瓦胡椒提取物0.1-1wt％、豆浆发酵产物1-3wt％，二裂酵母发酵产物溶胞物0.5-1.5wt％。

进一步地，所述甘草提取物为甘草酸或甘草次酸。

进一步地，所述豆浆发酵产物为黑豆豆浆发酵产物。

进一步地，所述甘草提取物和卡瓦胡椒提取物均是通过低温微射流法提取的。

本发明还公开了一种甘草提取物护肤品组合物的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：

S1.称取甘草提取物、卡瓦胡椒提取物、豆浆发酵产物和二裂酵母发酵产物溶胞物，并将各原料共混；

S2.将步骤1得到的共混原料加入水溶性辅料中，进行剪切得到浊液；

S3.采用微射流技术将步骤2得到的浊液制成乳液，即得到甘草提取物护肤品组合物。

进一步地，步骤2中所述的水溶性辅料中包括多元醇和非离子表面活性剂。

进一步地，步骤2中所述的水溶性辅料由丁二醇、1,2-己二醇、甘油、对羟基苯乙酮、1,2-戊二醇、透明质酸钠、精氨酸和卡波姆组成。

本发明还公开了本发明护肤品组合物在改善皮肤敏感方面的应用。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：