[发明专利]一种具有新型熔镀层的压射室

权利要求书

1.一种具有新型熔覆层的压射室，其特征在于，包括：

圆柱状的压射室本体，所述压射室本体包括与压射冲头配合的近端部位，与有浇口开口的远端，所述的压射室内表面部加工有激光熔覆层。

2.根据权利要求书1所述的一种具有新型熔镀层的压射室，其特征在于：所述压射室的熔镀层包括以下重量的百分比的组分，C占0.75-0.95%, Cr占24-25%，W占7%-8%, Si占2%-4%，Mn占比不超过0.3%，Fe占比不超过1.0%，Mo占比不超过1.0%，Ni占8%-12%，其余为钴。

3.根据权利要求书1所述的一种具有新型熔镀层的压射室，其特征在于：所述压射室的熔镀层利用激光熔覆设备进行熔镀，所述激光熔覆过程在Ar保护气环境下进行，设置所述激光功率为800～1200W，光斑直径1.5～17mm，以3～7mm/s的激光扫描速度对所述钴合金粉末进行激光熔覆，所述完全布满压射室内壁表面的熔镀层的厚度为1mm-3mm。

4.根据权利要求1所述的一种具有新型熔镀层的压射室，其特征是所述激光扫描的扫描搭接率为30～50%。

5.根据权利要求书1所述的一种具有新型熔镀层的压射室，其特征是所述用于压射室熔镀的粉末细度是85～150目。