[发明专利]一种自适应高精度真空吸盘

说明书

本发明公开了一种自适应高精度真空吸盘，其特征在于：包括吸盘主体及设置于吸盘主体内的气道及若干真空吸孔，该真空吸孔包括气孔一及气孔二，所述气孔一与吸盘主体的吸附面贯通，且真空吸孔内设有密封阀件及弹性复位件，该密封阀件通过弹性复位件的挤压能够封堵气孔一和气孔二，且密封阀件有部分露于气孔一外通过与被吸附物表面接触而将密封阀件顶起使气孔一与外界贯通，所述气孔二与气道连通。本真空吸盘，任何大小的基材都可以进行很好的吸附在吸盘上，并且不需要其他操作。

技术领域

本发明涉及一种激光直写曝光机，特别是一种激光直写曝光机上用于抓取电路板的自适应高精度真空吸盘。

背景技术

激光直写曝光机进行曝光时，由于待曝光的基材的尺寸大小不一样，大部分基材的大小比曝光机的真空吸盘尺寸要小，这样就导致曝光机的真空吸盘上的部分吸孔会暴露出来，从而导致基材的真空吸力不够。现在常规的处理办法是在真空吸盘没有基材覆盖的区域，利用麦拉膜或者其他薄板阻住吸盘上的吸孔，这样就可以让真空吸盘上的所有吸孔都被覆盖，从而提高真空吸盘的真空吸力，保证基材与真空吸盘更好的贴合，保证曝光的良率，如果不将基材没有覆盖区域的吸孔阻住，真空吸盘的真空度会达不到要求，而且由于部分待曝光的基材有四边翘曲的情况，这样会导致基材翘曲的区域出现曝光不良的情况，影响产品的良率。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供一种激光直写曝光机用自适应高精度真空吸盘。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种自适应高精度真空吸盘，其特征在于：包括吸盘主体及设置于吸盘主体内的气道及若干真空吸孔，该真空吸孔包括气孔一及气孔二，所述气孔一与吸盘主体的吸附面贯通，且真空吸孔内设有密封阀件及弹性复位件，该密封阀件通过弹性复位件的挤压能够封堵气孔一和气孔二，且密封阀件有部分露于气孔一外通过与被吸附物表面接触而将密封阀件顶起使气孔一与气孔二贯通，所述气孔二与气道连通。

所述吸盘主体包括设置于吸盘主体内的吸盘槽及封闭吸盘槽的盖板、设置于吸盘槽内的气阀单元，所述气阀单元包括阀体，所述真空吸孔为阀体的内腔，所述气孔一及气孔二设置于阀体上，所述密封阀件及弹性复位件位于阀体内，所述盖板上设有通孔，所述气阀单元端部位于通孔中且与通孔密封配合，且所述气孔一也位于通孔中，所述气阀单元间的空隙构成所述气道。

所述吸盘主体上设有螺孔，且阀体上设有与安装螺孔配合的螺纹。

所述密封阀件为球体。

所述真空吸孔包括孔顶面及孔侧面，所述气孔一位于孔顶面，且所述气孔二位于孔侧面上。

所述弹性复位件包括压缩弹簧一及压缩弹簧二，所述压缩弹簧一能够使密封阀件复位而封堵气孔一；所述压缩弹簧二能够使密封阀件复位而封堵气孔二。

本发明的有益效果是：任何大小的基材都可以进行很好的吸附在吸盘上，并且不需要其他操作，具体如下：

1.自适应的高精度真空吸盘，可以兼容各种大小不同的曝光基材，而且不需要在吸盘上另外使用其他东西堵住基材覆盖以外的真空吸孔，提高吸盘的通用性，并且提高生产效率；

2.自适应的高精度真空吸盘，不会因为真空形成的内部压力的变化导致基材会轻微上下起伏波动，可以避免因为基材抖动而导致的曝光不良。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明的整体结构视图；

图2是图1的A部放大结构视图；

图3是本发明的剖面结构视图；

图4是气阀单元处于密封状态的示意图；

图5是气阀单元处于开启状态的示意图。

具体实施方式