[发明专利]一种光栅结构及其制备方法、显示设备

权利要求书

1.一种光栅结构，其特征在于，包括多个在第一方向上依次排列的光栅单元，所述光栅单元包括不透光部和透光部，所述不透光部和所述透光部均呈沿第二方向延伸的条状，所述光栅结构被配置为使反射光线与入射光线位于同一路径上，所述第二方向与所述第一方向不平行，所述反射光线为所述入射光线经所述光栅结构反射后的光线；

所述光栅单元包括沿所述第一方向上依次排列的第一光栅子单元、第二光栅子单元和第三光栅子单元，所述第一光栅子单元包括第一不透光部和第一透光部，所述第二光栅子单元包括第二不透光部和第二透光部，所述第三光栅子单元包括第三不透光部和第三透光部，所述第一光栅子单元的宽度为第一宽度，所述第二光栅子单元的宽度为第二宽度，所述第三光栅子单元的宽度为第三宽度；

其中，所述第一宽度的范围为350nm至450nm；所述第二宽度的范围为450nm至550nm；所述第三宽度的范围为550nm至650nm。

2.根据权利要求1所述的光栅结构，其特征在于，

所述光栅结构的等效折射率大于或等于2。

3.根据权利要求2所述的光栅结构，其特征在于，所述不透光部的材质包括硅。

4.根据权利要求1所述的光栅结构，其特征在于，所述透光部的材质为树脂。

5.根据权利要求1所述的光栅结构，其特征在于，所述光栅单元的占空比为40％至60％。

6.根据权利要求1所述的光栅结构，其特征在于，

所述第一光栅子单元、所述第二光栅子单元和所述第三光栅子单元的占空比相同，且均为40％至60％；和/或，

所述第一不透光部、所述第二不透光部和所述第三不透光部的材质相同，所述第一不透光部、所述第二不透光部和所述第三不透光部的材质的折射率等于或大于2。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的光栅结构，其特征在于，所述光栅结构还包括保护层，所述保护层位于多个依次排列的光栅单元的外围，所述保护层的材质与所述透光部的材质相同。

8.一种显示设备，其特征包括，包括权利要求1至7中任一项所述的光栅结构以及至少一个投影装置，所述投影装置用于朝向所述光栅结构投影，所述光栅结构在位于投影光线所在的直线上产生对应的图像。

9.一种用于制备权利要求1至7任一项所述的光栅结构方法，其特征在于，包括：

在基底上形成不透光层，所述不透光层包括多个沿第一方向依次排列的不透光部，所述不透光部呈沿第二方向延伸的条状，所述第二方向与所述第一方向不平行；

在所述不透光层背离所述基底的一侧涂覆透光材料，位于相邻两个所述不透光部之间的透光材料形成透光部，其余的所述透光材料形成第一保护层；

将所述不透光部和所述透光部从所述基底剥离，获得所述光栅结构，所述光栅结构被配置为使反射光线与入射光线位于同一路径上，所述反射光线为所述入射光线经所述光栅结构反射后的光线。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在基底上形成不透光层，包括：

在基底的一侧形成刻蚀材料层；

在所述刻蚀材料层背离所述基底的一侧形成所述不透光层；

通过相邻两个所述不透光部之间的间隙，采用刻蚀工艺对所述刻蚀材料层进行刻蚀，保留位于所述不透光层周向边缘位置的刻蚀材料以形成支撑层。