[发明专利]一种仿陶瓷玻璃板及其制备方法

权利要求书

1.一种仿陶瓷玻璃板，其特征在于，包括玻璃基板层，在玻璃基板层的一面喷涂有颜色油墨层，在玻璃基板层的另一面依次镀有氮化硅透明加硬层、DLC膜层和AF膜层，所述氮化硅透明加硬层包括二氧化硅层，在二氧化硅层之上依次顺序设有数层氮化硅层和数层氮氧化硅层，氮化硅层和氮氧化硅层采用间隔互层方式设置。

2.如权利要求1所述的一种仿陶瓷玻璃板，其特征在于，所述氮化硅层的层数为3~8层，氮氧化硅层的层数为3~8层。

3.如权利要求1所述的一种仿陶瓷玻璃板，其特征在于，所述的氮化硅层的单层厚度为30~300纳米，氮氧化硅层的单层厚度为15~100纳米。

4.如权利要求1所述的一种仿陶瓷玻璃板，其特征在于，所述颜色油墨层厚度为15~25微米。

5.如权利要求1所述的一种仿陶瓷玻璃板，其特征在于，所述颜色油墨层的颜色为黑色、绿色、蓝色、白色、红色之一。

6.如权利要求1~5任一一种仿陶瓷玻璃板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：将玻璃浸没在纯水中，通过超声波清洗30~40min后，用120℃热风烘干；

步骤二：采用喷墨机在步骤一烘干的玻璃一面喷涂有色油墨；

步骤三：将喷涂有油墨的玻璃放入烤箱内，在150℃下烘烤60min；

步骤四：将步骤三中油墨固化了的玻璃再次采用步骤一的方式清洗干净，清洗后人工检查，要求未喷油墨面无脏污和划伤；

步骤五：将步骤四清洗干净的玻璃利用高温胶带固定在镀膜机上进行镀膜；

步骤六：当镀膜机真空度达到0.00085帕后，硅靶/ICP开始工作，同时，注入氧气、氩气和氮气，在此过程中，首先制作20~60纳米厚的二氧化硅层作为衔接层，再制备单层纳米氮氧化硅膜层，随后制备单层纳米氮化硅膜层，两种材料反复交替叠加，达到机器设定的膜层数量时，氮化硅透明加硬层镀膜结束；

步骤七：步骤六的作业结束后，碳靶开始进行镀DLC膜层工作，溅射出纳米级碳原子，并沉积在氮化硅透明加硬层外表面，碳原子沉积速率控制在0.05nm/s～0.1nm/s，DLC膜层厚度3～5纳米；

步骤八：利用蒸镀方法在步骤七所述的DLC膜层外表面镀20~30纳米厚度的AF膜层，该AF膜层选用膜料为全氟聚醚硅氧烷。

7.如权利要求6所述的仿陶瓷玻璃板的制备方法，其特征在于，步骤六中，制做纳米二氧化硅层时，硅靶功率为12~15KW，硅靶溅射氩气流量为300~600SCCM；氧化源功率为2.5~5KW，反应的氩气和氧气的注入流量比例为：50~200SCCM：600~1000SCCM；

制做氮化硅时，硅靶功率为12~15KW，硅靶溅射氩气流量为120~400SCCM，氧化源功率为2.5~5KW，反应的氩气和氮气的注入流量比例为：50~200SCCM：200~300SCCM；

制做氮氧化硅时，硅靶功率为12~15KW，硅靶溅射氩气流量为120~400SCCM，氧化源功率为2.5~5KW，反应的氧气、氮气和氩气的注入流量比例为：100~160SCCM：200~300SCCM：50~200SCCM。

8.如权利要求6所述的仿陶瓷玻璃板的制备方法，其特征在于，步骤七中制做DLC膜时碳靶的功率为6~15KW，靶材溅射氩气的注入流量为：200~400SCCM；氧化源功率为0.5~1KW，氩气流量为50~150SCCM。

9.如权利要求6所述的仿陶瓷玻璃板的制备方法，其特征在于，所述硅靶、碳靶靶材的纯度均为99.99%以上；氧气、氩气、氮气纯度均达到99.999%以上。

10.如权利要求6所述的仿陶瓷玻璃板的制备方法，其特征在于，步骤八中蒸镀AF 的真空度在0.002帕以下，离子源清洁20~200秒，离子源的功率为：中和电流16~20A，离子束流250MA，电子束流300MA，加速电压200~250V，屏极电压350v，加速电流1~20A，阴极电流9~11A，阳极电压60~90V，阳极电流2~4A。