[发明专利]一种用于细胞共培养的微流控芯片及其细胞培养方法在审

专利信息
申请号: 202110354550.3 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN112980684A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 汪瑞辰;沈培亮 申请(专利权)人: 伊尔瑞生物科技(江苏)有限公司
主分类号: C12M3/00 分类号: C12M3/00;C12M1/42;C12M1/38;C12M1/36;C12M1/34;C12M1/04;C12M1/02
代理公司: 南京鑫之航知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32410 代理人: 汪庆朋
地址: 210000 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 细胞 培养 微流控 芯片 及其 细胞培养 方法
【说明书】:

本发明涉及一种用于细胞共培养的微流控芯片及其细胞培养方法,包括承载底座、培养台、透明盖板、透明电极板、加热丝、接线端子及驱动电路,承载基座上端面设承载槽,培养台嵌于承载槽,透明盖板包覆在培养台上端面,透明电极板共两条,对称分布在培养台轴线两侧并与培养台轴线平行分布,各透明电极板均与承载槽侧壁连接,加热丝嵌于承载槽底部,驱动电路和接线端子均嵌于承载底座外侧面。细胞培养方法包括设备预制,细胞预制及细胞培养等三个步骤。本发明可有效满足多种类型细胞培养工作的需要,且培养过程控制精度高的优点,同时操作及维护成本低廉、运行自动化程度高,从而有效提高细胞培养作业的工作效率和质量。

技术领域

本发明属于细胞培养领域,涉及一种用于细胞共培养的微流控芯片及方法。

背景技术

目前在细胞培养中需要通过微流控芯片进行辅助培养,当前的用于细胞培养的设备种类较多,例如专利公开号为CN106544270B,公开日为20160326,专利申请号为201611107680.2,专利名称为一种用于细胞共培养的微流控芯片及其细胞培养方法;专利公开号为CN103060196A,公开日为20130424,专利申请号为201210589651X,专利名称为一种新型高效微流控多细胞共培养芯片及其制备方法。虽然可以一定程度满足使用的需要,但在使用中,一方面存在设备结构复杂,操作、维护作业成本高及劳动强度大;另一方面存在细胞培养手段单一,培养效率低下,从而导致当前设备在进行细胞培养时的工作成本和难度均相对较大,难以有效满足实际工作使用的需要。

因此针对这一问题,迫切需要开发一种全新的细胞共培养的微流控芯片及其细胞培养方法,以满足实际使用的需要。

发明内容

为了解决现有技术上的不足,本发明提供一种用于细胞共培养的微流控芯片及方法。

一种用于细胞共培养的微流控芯片,包括承载底座、培养台、透明盖板、透明电极板、连接管头、加热丝、接线端子及驱动电路,承载底座为横断面呈矩形的板状结构,其上端面设承载槽,培养台至少一个嵌于承载槽内并与承载底座上端面平行分布,透明盖板包覆在培养台上端面并与培养台同轴分布,培养台一端设至少一个加液口,另一端设至少一个排液口,侧表面设一个通气口,且所述加液口、排液口及通气口均与连接管头连接,且所述连接管头与培养台上端面呈0-90度夹角,且连接管头前端面位于承载底座外,所述透明电极板共两条,对称分布在培养台轴线两侧并与培养台轴线平行分布,且各透明电极板均与承载槽侧壁连接,并与培养台侧表面相抵,所述加热丝嵌于承载槽底部并沿与培养台轴线垂直方向均布,所述加热丝间相互并联,并分别与驱动电路电气连接,所述驱动电路和接线端子均嵌于承载底座外侧面,且驱动电路另与透明电极板和接线端子电气连接;所述的承载底座外表面设一个蠕动泵、负压泵、气压传感器、氧气传感器、控制阀、辐照灯及温度传感器,所述蠕动泵、负压泵、气压传感器、氧气传感器、控制阀均与承载底座外表面连接,其中所述蠕动泵至少两个,其中至少一个蠕动泵通过控制阀与各加液口连通,另至少一个蠕动泵通过控制阀与排液口连通,所述负压泵通过控制阀与通气口连通,所述控制阀另通过倒流支管与气压传感器、氧气传感器连通,所述辐照灯若干,嵌于承载槽内,环绕承载槽轴线均布并嵌于承载槽内侧面,所述辐照灯光轴与承载槽轴线垂直分布,并与承载槽底部呈0-60度夹角,所述温度传感器嵌于承载槽内并与承载槽同轴分布,所述蠕动泵、负压泵、气压传感器、氧气传感器、控制阀、辐照灯及温度传感器均与驱动电路电气连接。

进一步的,所述的培养台包括透明基座、微流通道、培养槽、通气通道、生物培养衬层、生物引流层,其中所述透明基座上端面中点位置设至少一个培养槽,各培养槽均沿与透明基座轴线垂直方向均布,并相互并联,所述培养槽一端通过微流通道与加液口连通,另一端通过微流通道与排液口连通,培养槽上表面另通过通气通道与通气口连通,所述培养槽间相互并联,且各培养槽连接的微流通道和通气通道相互并联,所述生物培养衬层包覆在培养槽内表面,所述生物引流层包覆在微流通道内表面,所述微流通道、通气通道的深度为培养槽深度的1/4-1/2,且培养槽深度为透明基座深度的50%-90%。

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